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韩恒利

作品数：6 被引量：8H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 24个电子电信
  • 6个自动化与计算...
  • 2个化学工程
  • 2个电气工程
  • 1个一般工业技术
  • 1个理学

主题

  • 23个CCD
  • 13个电荷耦合
  • 13个电荷耦合器
  • 13个电荷耦合器件
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机构

  • 24个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 1个国防科技技术...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 23个半导体光电
  • 7个电子科技
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  • 2个集成电路应用
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  • 1个物理化学学报
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  • 1个传感技术学报
  • 1个内燃机与配件
  • 1个中文科技期刊...
  • 1个第八届中国微...
  • 1个中国光学学会...

地区

  • 24个重庆市
共 24 条 记 录，以下是 1-10
陈捷
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 本征吸杂 电荷耦合器件 低温退火 栅介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪凌
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 复合介质 光刻胶 减薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳志强
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 成像 反应离子刻蚀 光电探测
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林海青
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：表面光电压法 表面光电压 CCD 放大器 沟道长度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊玲
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 硅片 硅晶圆 抛光 湿法腐蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许宏
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 本征吸杂 暗电流密度 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖晓航
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 温度 特性分析 成像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任利平
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 热载流子效应 BCCD PIN光电二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟四成
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 减薄 成像 图像传感器 传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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