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薛宏伟

作品数：54 被引量：19H指数：3
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信文化科学自动化与计算机技术机械工程更多>>

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共 23 条 记 录，以下是 1-10
袁肇耿
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 硅外延片 硅外延 外延层 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵丽霞
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 互连线 外延层 衬底 硅外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈秉克
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 外延层 衬底 硅外延 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴会旺
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：碳化硅 外延片 硅外延 硅外延片 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张志勤
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 电阻率 衬底 薄层 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张佳磊
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：电阻率 外延片 硅外延片 衬底 测试仪
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
霍晓阳
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：限位 外延片 测温装置 HCL 阀门
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田中元
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：硅外延片 除杂质 衬底 刻蚀 外延片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王刚
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：半导体材料 硅外延 硅外延片 CVD 单片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李永辉
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：硅外延片 除杂质 衬底 刻蚀 外延片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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