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侯兴刚

作品数：33 被引量：75H指数：4
供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
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刘安东
供职机构：北京师范大学
研究主题：离子注入 光催化 TIO2 TIO_2薄膜 TIO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄美东
供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院
研究主题：电弧离子镀 磁控溅射 脉冲偏压 TIN薄膜 光学性能
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
顾雪楠
供职机构：北京师范大学低能核物理研究所
研究主题：光催化 光催化薄膜 离子注入 电子束辐照 二氧化钛
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李德军
供职机构：天津师范大学
研究主题：纳米多层膜 磁控溅射 调制周期 离子束辅助沉积 射频磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡燕
供职机构：北京师范大学
研究主题：二氧化钛 羟基磷灰石 光催化 电子束辐照 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴晓玲
供职机构：北京师范大学核科学与技术学院
研究主题：微弧氧化 陶瓷膜 微弧氧化膜 不锈钢 SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘培生
供职机构：北京师范大学核科学与技术学院
研究主题：多孔材料 泡沫金属 多孔金属 黏度 泡沫镍
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周茂奇
供职机构：北京师范大学核科学与技术学院射线束技术与材料改性实验室
研究主题：多孔 多孔材料 多孔载体 钨 二氧化钛薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖斌
供职机构：北京师范大学
研究主题：钉扎 金属 类金刚石 离子源 涂层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吉亚萍
供职机构：天津师范大学物理与电子信息学院
研究主题：ALN薄膜 磁控溅射 ALN 薄膜光学 溅射沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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