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仲维续

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主题

  • 3个单晶
  • 3个单晶硅
  • 3个单晶硅片
  • 3个衰减率
  • 3个离子注入
  • 3个晶格
  • 3个晶格结构
  • 3个硅片
  • 3个半导体
  • 3个半导体制造
  • 3个半导体制造工...
  • 3个测量温度
  • 1个氧化层
  • 1个离子
  • 1个光刻
  • 1个光刻胶
  • 1个硅片表面
  • 1个剥落
  • 1个超薄
  • 1个超薄氧化

机构

  • 3个中国航天科技...

地区

  • 3个陕西省
共 3 条 记 录，以下是 1-3
张晓雷
供职机构：中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
研究主题：测量温度 半导体制造工艺 单晶硅片 晶格结构 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
贺金良
供职机构：中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
研究主题：测量温度 半导体制造工艺 单晶硅片 晶格结构 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张思申
供职机构：中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
研究主题：超薄氧化层 剥落 硅片表面 光刻胶 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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