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李明达

作品数：20 被引量：35H指数：5
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金：天津市自然科学基金天津市科技计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 4个一般工业技术
  • 3个电气工程
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  • 2个理学
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程

主题

  • 9个硅外延
  • 8个外延片
  • 7个电阻率
  • 7个外延层
  • 7个硅外延片
  • 7个过渡区
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传媒

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  • 1个有色金属工程
  • 1个科技经济导刊

地区

  • 9个天津市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
李普生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：均匀性 硅外延层 硅外延 化学气相沉积 外延片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 均匀性 电阻率 过渡区 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛兵
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：过渡区 硅外延片 均匀性 硅外延层 硅外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李杨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 PIN光电探测器 外延片 吹扫 P型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高航
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 硅外延 吹扫 P型 变流量
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王文林
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 压电陶瓷材料 压电陶瓷 过渡区 吹扫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
傅颖洁
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：高阻 一致性 衬底 材料加工工程 薄层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
边娜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SPC 硅外延片 硅外延 电阻率 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李扬
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：VDMOS器件 VDMOS 过渡区 硅外延片 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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