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颜伟

作品数:22 被引量:22H指数:4
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
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领域

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24 条 记 录,以下是 1-10
杨富华
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:淀积 相变存储器 电极 纳米尺寸 相变材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李兆峰
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:微环谐振腔 硅 模斑转换器 场效应晶体管 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王晓东
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:淀积 相变存储器 纳米尺寸 相变材料 微装配
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩伟华
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:硅基 晶体管 纳米线 硅纳米线 硅衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杜彦东
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:半导体 ALGAN/GAN_HEMT 硅纳米线 硅衬底 高电子迁移率晶体管
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张严波
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:神经元电路 硅纳米线 树突 纳米线 硅衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何志
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 刻蚀 欧姆接触 HEMT器件 GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
白龙
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:晶体管 天线 探测器 太赫兹波 场效应晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨香
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 硅基 刻蚀 相变存储器 沟槽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张仁平
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:ALGAN/GAN_HEMT 高电子迁移率晶体管 GAN 干法刻蚀技术 干法刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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