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董军恒

作品数：8 被引量：3H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 6个理学
  • 3个自动化与计算...
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个动力工程及工...
  • 1个电气工程
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学

主题

  • 9个单晶
  • 8个电阻率
  • 7个硅单晶
  • 6个单晶生长
  • 6个区熔
  • 6个区熔硅单晶
  • 6个均匀性
  • 6个硅单晶生长
  • 5个等径
  • 5个少子寿命
  • 5个漩涡
  • 4个电磁
  • 4个电磁场
  • 4个多晶
  • 4个多晶硅
  • 4个英寸
  • 4个有限元
  • 4个真空
  • 4个数值模拟
  • 4个探测器

机构

  • 9个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 1个天津工业大学
  • 1个河北工业大学

资助

  • 3个国家部委资助...
  • 1个国防基础科研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 8个半导体技术
  • 8个电子工业专用...
  • 5个天津科技
  • 5个第十五届全国...
  • 3个微纳电子技术
  • 3个中国电子科学...
  • 3个第十五届全国...
  • 1个节能技术
  • 1个Journa...
  • 1个电子工艺技术
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个人工晶体学报
  • 1个传感技术学报
  • 1个第九届中国太...
  • 1个第十四届全国...

地区

  • 7个天津市
  • 2个北京市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
刘燕
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅 电阻率 区熔 少子寿命 FZ
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洪飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 FZ 硅 均匀性 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫萍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 高阻 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
庞炳远
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 硅单晶生长 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：FZ 区熔硅单晶 硅单晶 区熔 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张殿朝
供职机构：天津工业大学
研究主题：区熔 少子寿命 硅单晶 区熔硅单晶 数值模拟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高岗
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：FZ 硅 均匀性 单晶 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LPCVD 封片 二氧化硅 低压化学气相淀积 沉积温度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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