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严金龙
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题:SI 反应离子刻蚀 ISOLATION 硅 SILICON
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蔡根寿
供职机构:华东理工大学
研究主题:反应离子刻蚀 光致抗蚀剂 微电子学 紫外激光 磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
沈国雄
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题:磁控溅射 超大规模集成电路 半导体制造工艺 半导体工艺设备 反应离子刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴钰铭
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题:磁控溅射 半导体制造工艺 半导体工艺设备 反应离子刻蚀 化学气相沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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