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王维军

作品数：8 被引量：4H指数：2
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

领域

  • 12个电子电信
  • 6个机械工程
  • 5个自动化与计算...
  • 5个一般工业技术
  • 3个自然科学总论
  • 2个生物学
  • 2个金属学及工艺
  • 2个电气工程
  • 2个航空宇航科学...
  • 2个理学
  • 1个经济管理
  • 1个化学工程
  • 1个交通运输工程

主题

  • 11个光刻
  • 8个刻蚀
  • 7个T形栅
  • 6个电子束
  • 6个掩模
  • 6个移相掩模
  • 6个移相掩模技术
  • 6个图形尺寸
  • 6个微光刻
  • 6个位相
  • 6个光学光刻
  • 6个PEL
  • 5个电路
  • 5个电子束光刻
  • 5个电子束曝光
  • 5个位相差
  • 5个光刻胶
  • 4个氮化
  • 4个形貌
  • 4个栅结构

机构

  • 11个中国电子科技...
  • 2个机电部
  • 1个北京邮电大学
  • 1个北京师范大学
  • 1个河北半导体研...
  • 1个吉林大学
  • 1个中国科学院
  • 1个中国科学院微...
  • 1个电子工业部
  • 1个中国科学院长...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国科学院微...

资助

  • 5个国家自然科学...
  • 2个国家高技术研...
  • 2个国家重点实验...
  • 1个国防基金
  • 1个国家重点基础...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个国家科技重大...
  • 1个“九五”国家...
  • 1个滨州市科技发...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个国家攀登计划
  • 1个国家重大科学...
  • 1个江苏省“青蓝...
  • 1个全球变化研究...
  • 1个上海市浦江人...
  • 1个中国科学院知...
  • 1个中国科学院知...

传媒

  • 11个微纳电子技术
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  • 4个中国微米/纳...
  • 3个半导体情报
  • 3个半导体技术
  • 3个Journa...
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  • 2个微电子学
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  • 2个2003年惯...
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  • 2个中国微米纳米...
  • 2个2010’全...
  • 2个中国微米、纳...
  • 2个2003年惯...
  • 2个中国微米、纳...
  • 2个中国惯性技术...

地区

  • 11个河北省
  • 1个北京市
共 12 条 记 录，以下是 1-10
罗四维
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：T型栅 电子束光刻 微电子 电子束曝光系统 ICP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉贵
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：T型栅 电子束曝光 断点 微电子器件 电子束光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩安云
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：移相掩模 T形栅 光刻 移相掩模技术 PEL
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张倩
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：陶瓷外壳 陶瓷 封装外壳 封装 夹具
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王育中
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：移相掩模 T形栅 光刻胶 位相差 微光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田振文
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：移相掩模 T形栅 光刻胶 位相差 微光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
樊照田
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：移相掩模 T形栅 光刻胶 位相差 微光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
丁奎章
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：半导体器件 自对准 T形栅 T型栅 腐蚀速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨拥军
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：MEMS 微电子机械系统 微机械 硅 传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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