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刘效岩

作品数：61 被引量：84H指数：6
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
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相关领域：电子电信金属学及工艺化学工程医药卫生更多>>

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领域

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地区

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  • 1个新疆
共 57 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴仪
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：晶片 卡盘 晶圆 夹持 半导体晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡轶
供职机构：新疆师范大学化学化工学院
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 碱性抛光液 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姬丹丹
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：硅片 卡盘 夹持 晶片 种盘
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
初国超
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：储液罐 超微 超纯水 雾化液 雾化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯晓敏
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：晶圆 射孔 静电 清洗方法 气体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘海晓
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 去除速率 速率 化学机械平坦化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 阻挡层 化学机械抛光 抛光表面 水溶液聚合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田军
供职机构：河北工业大学
研究主题：硬盘基板 CMP 粗糙度 计算机 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 速率 去除速率 超纯水 机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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