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刘丹

作品数：11 被引量：10H指数：2
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共 16 条 记 录，以下是 1-10
刘新宇
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：氮化镓 刻蚀 欧姆接触 衬底 ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李诚瞻
供职机构：株洲南车时代电气股份有限公司
研究主题：外延层 碳化硅 欧姆接触 ALGAN/GAN_HEMT ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
和致经
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：ALGAN/GAN 欧姆接触 HEMT ALGAN/GAN_HEMT 钛
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘果果
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：刻蚀 ALGAN/GAN_HEMT 氮化镓 电流崩塌 DOHERTY功率放大器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晓娟
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：HEMT ALGAN/GAN KU波段 ALGAN/GAN_HEMT GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姚小江
供职机构：中国电子科技集团第十四研究所
研究主题：混合集成电路 兰格耦合器 宽带功率放大器 平衡放大器 ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
魏珂
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：氮化镓 刻蚀 势垒层 欧姆接触 ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗卫军
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：氮化镓 HEMT 金属 GAN ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈小娟
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：MIC HEMT C波段 ALGAN/GAN_HEMTS ALGAN/GAN_HEMT
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘键
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 ALGAN/GAN_HEMT ALGAN/GAN 氮化碳薄膜 氮化碳
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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