孟兰兰
- 作品数：1 被引量：1H指数：1
- 供职机构：辽宁科技大学材料与冶金学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 不同驱动电源下磁控溅射等离子体行为被引量：1
- 2015年
- 磁控溅射驱动方式是影响其等离子体特征的重要因素之一,而等离子体行为最终影响所沉积薄膜结构和性能。磁控溅射过程中基体上产生的浮动电势与等离子体中电子能量分布有关,基体饱和电流则与等离子体的离子密度有关,可综合反映辉光放电系统等离子体状态。本实验分别采用射频、直流和脉冲直流电源溅射Mo粉末靶,改变靶基距,测量基体浮动电势及饱和电流,探讨溅射驱动方式对等离子体行为的影响。研究表明:靶功率增加,靶电压、电流均随靶功率增大,基体浮动电势基本保持不变,基体饱和电流增加,但电压增加率极小,而电流增加率较大。基体浮动电势绝对值随靶基距的增加而降低,即电子的能量分布随靶基距增加而降低。射频溅射产生的浮动电势明显小于直流和脉冲直流溅射的。直流溅射等离子体能量最高,射频溅射等离子体密度最大。
- 周艳文刘思宁孟兰兰朱鹏福吴法宇
- 关键词：驱动电源
