程嵩
- 作品数：13 被引量：11H指数：2
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
- 一种可变电场调制的远程等离子体原子层沉积系统
- 本发明属于原子层沉积技术领域，公开了一种可变电场调制的远程等离子体原子层沉积系统，包括：腔体；石英管；绝缘陶瓷组件；上电极盘；下电极盘；绝缘垫；加热盘；绝缘导热层；电源；继电器。解决了现有技术中薄膜沉积速率远小于理论预期...
- 卢维尔程嵩夏洋李楠
- 文献传递
- 一种用于生长单一晶向氧化锌的预处理方法
- 本发明公开了用于生长单一晶向氧化锌的预处理方法，属于半导体技术领域，本发明实施例通过将清洗好的衬底放入反应腔室中；开启罗茨泵和前级泵，并在抽真空的同时对样品盘、载气通道和腔室壁进行加热，在加热的过程中吹载气；当所述腔室壁...
- 张思敏夏洋卢维尔程嵩李楠
- 文献传递
- 量子纠缠:从量子物质态到深度学习被引量：5
- 2017年
- 量子纠缠在量子物质态的研究中扮演着日趋重要的角色,它可以标记传统范式难以区分的新奇量子态和量子相变,并指导设计高效的数值算法来精确地研究量子多体问题。最近,随着一些深度学习技术在量子物理问题中的应用,人们惊奇地发现:从量子纠缠的视角审视深度学习,或许有助于反过来理解和解决一些深度学习中的问题。量子纠缠定量化地刻画了现实数据集的复杂度,并指导相应的人工神经网络结构设计。沿着这个思路,物理学家们对于量子多体问题所形成的种种洞察和理论可以以一种意想不到的方式应用在现实世界中。
- 程嵩陈靖王磊
- 关键词：量子纠缠人工神经网络
- 问答被引量：1
- 2016年
- Q：为什么晶体有固定的熔点而非晶体没有,我看到一般书上只写到,因为晶体是长程有序的,而非晶体是长程无序而短程有序,求更深理解,为什么长程有序就有固定熔点？A：这个可以说得很形象。融化的本质就是热力学涨落,也就是分子的随机运动剧烈到可以克服分子间的吸引相互作用,使分子从束缚的状态挣脱开来,从而使得原有的固体结构被破坏。
- 戴希梁文杰陆俊程嵩
- 关键词：长程有序短程有序磁单极子费米子凝聚态物理
- 一种P型氧化锌薄膜制备装置及方法
- 本发明涉及半导体材料制备技术领域，具体涉及一种p型氧化锌薄膜制备装置，所述装置为原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括反应腔室，所述反应腔室内从上至下依次设有上电极罩、绝缘盘、下电极盘和加热盘；所述上电极罩与正电极相连接...
- 程嵩卢维尔夏洋李楠李超波张庆钊
- 一种变电场原子层沉积系统的控制方法
- 本发明属于原子层沉积技术领域，公开了一种变电场原子层沉积系统的控制方法，包括：上电极板和下电极板、直流电源、控制箱；通过调节直流电源，实现电场大小的切换；控制箱包含继电器、电容、电感、电阻，通过控制继电器端口的断开与相连...
- 卢维尔夏洋程嵩李楠李超波
- 文献传递
- 一种用于生长单一晶向氧化锌的预处理方法
- 本发明公开了用于生长单一晶向氧化锌的预处理方法，属于半导体技术领域，本发明实施例通过将清洗好的衬底放入反应腔室中；开启罗茨泵和前级泵，并在抽真空的同时对样品盘、载气通道和腔室壁进行加热，在加热的过程中吹载气；当所述腔室壁...
- 张思敏夏洋卢维尔程嵩李楠
- 微波用于抑制光刻胶纳米线条倒伏的研究
- 2017年
- 针对半导体工艺中去离子水的表面张力导致显影干燥过程中光刻胶纳米线条容易发生倒伏的问题,采用了微波干燥方法,以抑制光刻胶纳米线条倒伏。利用微波的热效应和非热效应,降低去离子水的表面张力,使光刻胶纳米线条上的去离子水均匀、快速地蒸发,有效抑制了光刻胶纳米线条的倒伏。与氮气干燥处理的传统方法相比,该方法能使高130nm、宽15nm的光刻胶纳米线条不发生倒伏,效果明显。这表明,该方法是可行和有效的。
- 黄洛俊康恒程嵩程嵩夏洋李勇滔
- 关键词：微波干燥倒伏水分子团簇
- 一种石墨烯化学修饰方法
- 本发明属于石墨烯修饰技术领域，公开了一种石墨烯化学修饰方法，包括对石墨烯及基底采用脉冲激光直写进行图形化的光化学修饰；对光化学修饰后的石墨烯及基底进行原子层选择性沉积。本发明解决了现有技术不能既对石墨烯进行结构和性能调试...
- 卢维尔夏洋程嵩张庆钊王欢李楠
- 文献传递
- 超临界CO2清洗技术在CMOS图像传感器中的应用被引量：5
- 2017年
- 针对传统去离子水和高纯氮气组合的两相流清洗方法对CMOS图像传感器上颗粒污染物清洗良率不足的问题,采用了一种喷嘴式超临界二氧化碳(SSCO_2)清洗的方法来清洗CMOS图像传感器。相比传统的水气两相流清洗方法,本方法利用了SSCO_2的表面张力小、溶解度高和扩散能力强等优点。实验结果显示,喷嘴式超SSCO_2清洗方法对CMOS图像传感器的像素点表面以及像素点之间直径大于300 nm的颗粒污染物可以进行有效清除,相对于传统的两相流清洗方法其清洗效果有明显的提高。该实验表明这种清洗方式在CMOS图像传感器清洗方面具有良好的应用前景。
- 黄洛俊康恒程嵩李勇滔夏洋景玉鹏
- 关键词：CMOS图像传感器两相流颗粒污染物
