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朱洪杰

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：华中师范大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金：国家大学生创新性实验计划项目更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇膜厚
  • 1篇矫顽力
  • 1篇光记录
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶薄膜
  • 1篇磁光
  • 1篇磁光记录

机构

  • 1篇华中师范大学

作者

  • 1篇郭继花
  • 1篇黄致新
  • 1篇冯小源
  • 1篇林玉
  • 1篇朱洪杰
  • 1篇朱宏生

传媒

  • 1篇信息记录材料

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
膜厚对GdTbFeCo非晶薄膜磁光性能的影响
2009年
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了GdTbFeCo非晶薄膜,通过调节溅射时间制备出了不同厚度的薄膜,并研究了膜厚对薄膜磁光性能的影响。磁光特性测试仪的测试结果表明:溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,可以使GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力和克尔角达到较大值,分别高达4575.476Oe和0.393o。能满足磁光记录材料矫顽力大,磁光克尔角大的要求。
朱宏生冯小源朱洪杰林玉郭继花黄致新
关键词：磁光记录矫顽力
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共1页<1>
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