您的位置： 专家智库 > >

孙西龙

作品数：10 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划沈阳市科技计划项目更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 7篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 10篇光源
  • 10篇红外
  • 10篇红外光
  • 10篇红外光源
  • 7篇MEMS
  • 5篇电极
  • 5篇金属
  • 5篇金属电极
  • 3篇湿法
  • 3篇图形化
  • 3篇气体传感
  • 3篇隔离层
  • 3篇传感
  • 2篇电阻
  • 2篇漂移
  • 2篇热电堆
  • 2篇热敏电阻
  • 2篇热偶
  • 2篇阻值
  • 2篇温度测量

机构

  • 10篇中国科学院微...
  • 3篇中北大学
  • 3篇昆山光微电子...
  • 1篇沈阳理工大学

作者

  • 10篇明安杰
  • 10篇孙西龙
  • 10篇刘卫兵
  • 8篇王玮冰
  • 7篇陈大鹏
  • 5篇毛海央
  • 3篇熊继军
  • 3篇谭秋林
  • 2篇孟莹
  • 1篇岱钦
  • 1篇姚俊
  • 1篇张岳

传媒

  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇激光与红外
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 6篇2017
  • 1篇2016
共 10 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种MEMS红外光源及其制作方法
本发明公开一种MEMS红外光源及其制作方法，其中，MEMS红外光源包括衬底、支撑层、金属电极、热偶条结构层、加热电阻层、隔离保护层和辐射层，所述热偶条结构层形成在红外光源内部芯片，形成耦合热电堆形成温度传感器，采用热电堆...
明安杰刘卫兵孙西龙毛海央陈大鹏
文献传递
一种MEMS红外光源及其制作方法
本发明公开一种MEMS红外光源及其制作方法，MEMS红外光源包括衬底、支撑层、第一热敏电阻层、介质层、第二热敏电阻层、隔离保护层、加热电阻层和辐射层，本发明中利用第一热敏电阻层和第二热敏电阻层中的一层热敏电阻层作为温度传...
明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
文献传递
面向红外光源的辐射自增强非晶碳薄膜性能
2017年
为进一步提升红外气体传感器的性能,提出了一种可实现辐射自增强的多层纳米交叠复合非晶碳薄膜材料应用于红外光源,对材料制备的关键工艺及性能表征进行了深入研究,以期大幅提高光源的辐射效率,降低功耗。采用非平衡磁控溅射工艺制备了含钛的周期性非晶碳复合薄膜,在不同退火条件下进行了方阻及光学吸收率测试表征。结果表明,多层纳米厚度交叠薄膜有效降低了薄膜的应力;氧等离子体表面刻蚀调控工艺实现了高辐射率纳米纤维材料的集成制备;制备的非晶碳纳米复合薄膜在高温800℃退火后呈现出良好的电阻热稳定性,在波长5~6μm内吸收率大于80%,最高接近84%。本工作为该辐射自增强的非晶碳薄膜应用于MEMS红外光源提供了一定的技术支持。
刘卫兵明安杰谭秋林孟莹孙西龙毛海央王玮冰熊继军
关键词：非晶碳红外光源吸收率
基于湿法预释放结构的MEMS红外光源及其制备方法
本发明公开一种基于湿法预释放结构的MEMS红外光源及其制备方法。所述基于湿法预释放结构的MEMS红外光源包括嵌入式空腔的承载衬底及所述承载衬底上的红外光源结构；所述红外光源结构设有支撑层、隔离层、图形化金属电极以及辐射层...
明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
文献传递
面向MEMS红外光源的辐射增强结构设计被引量：1
2017年
针对常规TO封装下红外光源辐射量在一定光程下严重衰减的不足,基于自研的MEMS红外光源结构,提出了用于红外辐射增强的反射镜及用于光束准直的透镜封装结构,以期大幅提高光源有效辐射效率。本文基于Zemax软件对红外光源在光路中的辐射特性进行了模拟仿真。仿真结果表明:红外光源放置于9.52 mm口径、9.41 mm深度的抛物面反射镜的焦点位置,辐射能量提高了15.5倍;采用2.2 mm厚的BaF_2材料的双凸曲面辐射透镜,红外光线呈准直收敛辐射,辐射效率最大可以达到27.42%。本工作研究成果为红外光学气体传感器光源提供了合理的红外辐射增强结构尺寸参数,有效提高了系统的稳定性和光源的辐射效率。
刘卫兵明安杰谭秋林孟莹孙西龙毛海央王玮冰熊继军
关键词：气体传感器
面向MEMS红外光源的高辐射率纳米硅结构制备被引量：2
2017年
通过制备面向MEMS红外光源的高辐射率多晶硅纳米柱状结构和单晶硅纳米孔结构,以提升红外源表面辐射率,降低器件功耗。制备方法分别为反应离子刻蚀(reactive-ion-etching,RIE)及等离子浸没离子注入(plasma immerse ion implantation,PIII)工艺对单晶硅以及铝电极掩膜的多晶硅表面调控修饰制备。并对2种纳米硅结构进行了吸收率测试,对铝电极掩膜进行了引线键合破坏拉力测试。测试表明,纳米硅结构在3~5μm波段的辐射率可以达到85%以上,暴露在刻蚀气氛后的铝电极掩膜引线键合强度可以达到器件工艺要求。
刘卫兵谭秋林明安杰孙西龙毛海央岱钦张岳姚俊王玮冰熊继军
关键词：硅纳米结构反应离子刻蚀
一种MEMS红外光源及其制作方法
本发明公开一种MEMS红外光源及其制作方法，MEMS红外光源包括衬底、支撑层、第一热敏电阻层、介质层、第二热敏电阻层、隔离保护层、加热电阻层和辐射层，本发明中利用第一热敏电阻层和第二热敏电阻层中的一层热敏电阻层作为温度传...
明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
文献传递
基于湿法预释放结构的MEMS红外光源及其制备方法
本发明公开一种基于湿法预释放结构的MEMS红外光源及其制备方法。所述基于湿法预释放结构的MEMS红外光源包括嵌入式空腔的承载衬底及所述承载衬底上的红外光源结构；所述红外光源结构设有支撑层、隔离层、图形化金属电极以及辐射层...
明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
文献传递
基于湿法预释放结构的MEMS红外光源
本实用新型公开一种基于湿法预释放结构的MEMS红外光源。所述基于湿法预释放结构的MEMS红外光源包括嵌入式空腔的承载衬底及所述承载衬底上的红外光源结构；所述红外光源结构设有支撑层、隔离层、图形化金属电极以及辐射层；所述图...
明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
文献传递
一种MEMS红外光源及其制作方法
本发明公开一种MEMS红外光源及其制作方法，其中，MEMS红外光源包括衬底、支撑层、金属电极、热偶条结构层、加热电阻层、隔离保护层和辐射层，所述热偶条结构层形成在红外光源内部芯片，形成耦合热电堆形成温度传感器，采用热电堆...
明安杰刘卫兵孙西龙毛海央陈大鹏
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0