杜珊
- 作品数：4 被引量：0H指数：0
- 供职机构：天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学机械工程金属学及工艺更多>>
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌
- 2012年
- 本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析。电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全。测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果。
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野张学谦王丽格杜珊
- 关键词：表面形貌
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌的研究
- AlTiN作为一种新型涂层材料,具有硬度高、氧化温度高、红硬性好、附着力强、摩擦系数小、导热率低等优良特性,广泛用于汽车、模具行业等。常见的AlTiN薄膜制备方法主要阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法两种。由于这两种方...
- 佟莉娜黄美东刘野张学谦王丽格杜珊
- 文献传递
- 退火处理对TiO_2薄膜结构和透射的影响
- 2012年
- 在常温下,采用射频反应磁控溅射方法在不同溅射功率下于K9双面抛光玻璃基底上制备二氧化钛薄膜。将制备的样品进行450℃退火6 h热处理。利用X射线衍射仪(XRD)对比分析了退火前后薄膜的微观结构,采用光栅光谱仪测试了退火前后薄膜样品的透射谱。实验结果表明,退火前薄膜样品是非晶态,退火后薄膜晶化为晶态,但不同溅射功率下制备的薄膜结晶取向有差异;退火热处理对薄膜的折射率有一定影响,表现为退火前后透射谱偏移。
- 王丽格黄美东杜珊佟莉娜刘野
- 关键词：退火磁控溅射二氧化钛薄膜
- 退火处理对TiO2薄膜结构和透射性能的影响
- 二氧化钛薄膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化性能,在微电子、光学、传感器和光催化方面有着重要的应用。二氧化钛还具有坚硬、抗化学腐蚀,在整个可见和近红外光谱区都透明,透射率高、折射率大、化学稳定性高等优异性能,所以研究二...
- 王丽格黄美东杜珊佟莉娜刘野
- 文献传递
