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马志敏

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:合肥工业大学电子科学与应用物理学院更多>>
发文基金:安徽省自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇硅基
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇射线衍射
  • 1篇气相沉积
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇硅基底
  • 1篇SIC薄膜
  • 1篇VAPOUR
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇
  • 1篇CVD
  • 1篇EB-PVD
  • 1篇表面形貌

机构

  • 2篇合肥工业大学

作者

  • 2篇何晓雄
  • 2篇胡冰冰
  • 2篇马志敏
  • 1篇杨旭
  • 1篇潘训刚

传媒

  • 2篇合肥工业大学...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
硅基底的CVD扩磷工艺研究
2014年
文章利用化学气相沉积(CVD)扩磷的方法,在单晶硅基底上进行扩磷工艺研究。采用X射线光电子能谱分析扩磷硅基底,通过原子力显微镜观察扩磷时间和温度对硅基底表面形貌的影响,并利用半导体特性测试仪研究扩磷时间和温度对硅基底I-V特性的影响。结果表明,扩磷温度和时间对硅基底的表面粗糙度和晶粒的平均尺寸影响较大,扩磷时间越长、温度越高,硅基底的电学特性越明显。
杨旭何晓雄胡冰冰马志敏
关键词:硅基底表面形貌化学气相沉积VAPOUR
EB-PVD制备硅基SiC薄膜及其性能研究被引量:2
2012年
文章采用电子束蒸发物理气相沉积(EB-PVD)技术在单晶Si片上制备SiC薄膜,通过台阶仪(surfaceprofiler)、原子力显微镜(AFM)、半导体综合测试仪、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜表面形貌、电学性能及其结构进行分析。结果表明:SiC薄膜越厚,表面平均粗糙度越低;退火温度越高,薄膜结晶质量越好;对SiC薄膜进行辐照的光频率越高,光电流越大。
潘训刚何晓雄胡冰冰马志敏
关键词:SIC薄膜原子力显微镜扫描电子显微镜X射线衍射
共1页<1>
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