胡凡华
- 作品数：3 被引量：0H指数：0
- 供职机构：北京师范大学化学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学化学工程更多>>
- 一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备
- 2017年
- 聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型深紫外光致抗蚀剂,初步研究了该抗蚀剂的感光成像性能.采用Kr F激光(248 nm)曝光,在较低的后烘温度下,显影得到分辨率为180 nm的线条图形.显影后的留膜率在99%以上.在光致抗蚀剂体系中引入对羟基苯乙烯-金刚烷基甲基丙烯酸酯共聚物,可提高光刻胶材料的玻璃化转变温度,有利于其实际应用.
- 吴立萍胡凡华王倩倩王菁王力元
- 关键词：光致抗蚀剂深紫外缩醛
- 基于缩醛聚合物的化学增幅型紫外光刻胶
- 利用双酚A和二乙烯基醚化合物进行反应得到一类新型缩醛聚合物.这些有机化合物可溶于常用的溶剂,具有很好的热稳定性.具有很好的储存稳定性.含有缩醛结构的化合物具有高的酸解活性且在365 nm左右具有很好的光透明性,它们可以与...
- 胡凡华王力元
- 关键词：光刻胶
- 硫鎓盐光产酸剂的制备、纯化及其在248-nm光致抗蚀剂中的应用
- 光产酸剂是化学增幅型光致抗蚀剂中的主要组成部分。本课题合成了几种硫鎓盐光产酸剂,它们的阳离子都带有芳环或脂环,阴离子是氟代磺酸根或樟脑磺酸根。它们在在光致抗蚀剂常用溶剂中有一定溶解性,九氟丁基磺酸盐的溶解性稍好于三氟甲磺...
- 乔瑀胡凡华王力元
- 关键词：光致抗蚀剂光产酸剂金属杂质
- 文献传递
