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王力元: 作品数：94 被引量：57H指数：4; 供职机构：北京师范大学化学学院更多>>; 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划北京市自然科学基金更多>>; 相关领域：化学工程理学电子电信轻工技术与工程更多>>

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一种新型深紫外光刻胶: 利用t-BOC保护的对羟基苯乙烯与马来酸酐衍生物的交替共聚物作为成膜树脂.该聚合物在248nm处有较好的透明性,在常用有机溶剂中具有良好的溶解性.由于结构中含有BOC基团使得该聚合物具有好的酸解活性,加入光产酸剂可组成一...; 张晨颖王力元; 关键词：光致抗蚀剂

嵌段共聚物的导向自组装被引量：2: 2017年; 嵌段共聚物由于其在纳米尺度的自组装能力,通过在薄膜中的自组装可以得到特征尺寸小于10nm的周期性图形结构,近年来被广泛研究。导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)充分利用了嵌段共聚物在薄膜中进行自组装的优点,将"自下而上"的嵌段共聚物薄膜自组装技术和"自上而下"的光学光刻或电子束光刻等制备导向图形的技术结合起来。嵌段共聚物通过分子设计可得到层状、柱状、孔洞状等形貌多样的纳米结构。光刻模板表面的化学不均匀性使得嵌段共聚物和基底表面之间的相互作用可控,从而引导嵌段共聚物薄膜在一定的空间取向上定向排列。目前在导向自组装中常用的两种方法有直接在基底表面通过光刻制得前图形模板的制图外延法(几何控制)和基于对光刻模板表面进行化学修饰比如在模板表面接枝上一层中性层材料,从而通过化学诱导实现嵌段共聚物的定向自组装的化学外延法(化学控制)。导向自组装技术通过对微相结构的裁剪、表面修饰和尺寸控制,可以得到特征尺寸更小、密度更大、有序性更好的纳米图形,正逐渐成为最有前途的先进光刻技术方法之一。; 王倩倩吴立萍王菁王力元; 关键词：嵌段共聚物光刻分辨率

一种新型193nm正型光致抗蚀剂研究: ＜正＞1 简介由二乙烯基醚化合物与成膜树脂、光产酸剂等组成的正型光致抗蚀剂已有一些报道 ,这些二乙烯基醚化合物包括芳香的和脂肪的二乙烯基醚,成膜树脂包括酚醛树脂和含羧基的甲基丙烯酸酯及其衍生物的共聚物,其成像原理如下:; 王力元郭昕褚战星; 文献传递

基于酸解型聚甲基丙烯酸酯的化学增幅成像材料及应用: 将甲基丙烯酸与乙烯基乙基醚、二氢吡喃等进行羧基保护反应,得到的酯单体进行聚合反应或与其他单体进行共聚反应,得到了一系列新型的高酸解活性聚合物。由此类聚合物、酚醛树脂及光产酸剂等可组成正型化学增幅型感光成像材料。; 黎莹王力元; 关键词：阳图PS版热敏CTP版材; 文献传递

几种光产酸剂产酸效率的测定被引量：1: 2007年; 溴酚兰水溶液的紫外吸收会随着体系中含酸的量发生变化,在440 nm吸收峰处一定浓度范围内溴酚兰水溶液的吸光度与溶液中酸浓度成正比,可由此测定酸浓度.用这种方法测定了3种不同类型的光产酸剂在聚乙二醇膜层中在低压汞灯(254 nm)照射下的产酸量.其中三嗪光产酸剂的光照产酸能力最强.; 褚战星翟晓晓王力元李敏; 关键词：光致抗蚀剂光产酸剂指示剂

不含芳基的松香二酸酯缩醛聚合物、其合成方法及其用途: 本发明涉及一类不含芳基的松香二酸酯缩醛聚合物及其合成方法。松香二酸包括丙烯海松酸和枞酸二聚体。这两种二酸和各种脂肪二醇二乙烯基醚化合物在有机溶剂存在下加热反应得到新型的酯缩醛聚合物。此类聚合物易发生酸致分解反应，因此，由...; 王力元霍永恩; 文献传递

分子玻璃光致抗蚀剂研究进展: ＜正＞目前最先进的集成电路加工技术已达到45nm 生产工艺,预计二年内将跨入32nm 技术。在特征尺寸低于50nm 时,传统的化学增幅抗蚀剂的成像表现会遇到一些问题,包括线边缘粗糙度（LER）、图像均匀性和酸扩散控制等,...; 王力元

一种基于聚对羟基苯乙烯的单组分化学增幅光致抗蚀剂材料、其合成方法及其用途: 本发明涉及一种新型的基于聚对羟基苯乙烯(PHS)的化学增幅型单组份光致抗蚀剂材料及其合成方法，此聚对羟基苯乙烯的衍生物的部分苯环上含有光照产酸基团，部分酚羟基被可酸分解保护基保护起来。曝光时产酸基团产生强酸，在后烘条件下...; 王力元刘娟

酸增殖剂研究进展被引量：6: 2003年; 本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理.对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了介绍.并对它们的应用前景、现存问题和改进方向进行了简单讨论和介绍.; 王文君张改莲王力元余尚先; 关键词：酸增殖剂光致抗蚀剂感度

酸增殖剂研究进展: 本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理。对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了介绍。并对它们的应用前景、现存问题和改进方向进行了简单讨论和介绍。; 王文君张改莲王力元余尚先; 关键词：酸增殖剂光致抗蚀剂感度; 文献传递