王倩倩
- 作品数：5 被引量：3H指数：1
- 供职机构：北京师范大学化学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学化学工程一般工业技术更多>>
- 一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备
- 2017年
- 聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型深紫外光致抗蚀剂,初步研究了该抗蚀剂的感光成像性能.采用Kr F激光(248 nm)曝光,在较低的后烘温度下,显影得到分辨率为180 nm的线条图形.显影后的留膜率在99%以上.在光致抗蚀剂体系中引入对羟基苯乙烯-金刚烷基甲基丙烯酸酯共聚物,可提高光刻胶材料的玻璃化转变温度,有利于其实际应用.
- 吴立萍胡凡华王倩倩王菁王力元
- 关键词：光致抗蚀剂深紫外缩醛
- 嵌段共聚物的导向自组装被引量：3
- 2017年
- 嵌段共聚物由于其在纳米尺度的自组装能力,通过在薄膜中的自组装可以得到特征尺寸小于10nm的周期性图形结构,近年来被广泛研究。导向自组装(Directed Self-Assembly,DSA)充分利用了嵌段共聚物在薄膜中进行自组装的优点,将"自下而上"的嵌段共聚物薄膜自组装技术和"自上而下"的光学光刻或电子束光刻等制备导向图形的技术结合起来。嵌段共聚物通过分子设计可得到层状、柱状、孔洞状等形貌多样的纳米结构。光刻模板表面的化学不均匀性使得嵌段共聚物和基底表面之间的相互作用可控,从而引导嵌段共聚物薄膜在一定的空间取向上定向排列。目前在导向自组装中常用的两种方法有直接在基底表面通过光刻制得前图形模板的制图外延法(几何控制)和基于对光刻模板表面进行化学修饰比如在模板表面接枝上一层中性层材料,从而通过化学诱导实现嵌段共聚物的定向自组装的化学外延法(化学控制)。导向自组装技术通过对微相结构的裁剪、表面修饰和尺寸控制,可以得到特征尺寸更小、密度更大、有序性更好的纳米图形,正逐渐成为最有前途的先进光刻技术方法之一。
- 王倩倩吴立萍王菁王力元
- 关键词：嵌段共聚物光刻分辨率
- 一种高分子产酸剂及其组成的248-nm光致抗蚀剂
- 以对苯乙烯磺酸钠、乙酰氧基苯乙烯和甲基丙烯酸酯为单体通过自由基聚合反应得到多元共聚物,进一步与鎓盐卤化物交换反应得到含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物,再与二碳酸二叔丁酯(t-BOC)进行反应,可获得既含光产...
- 王倩倩张晨颖王力元
- 关键词：光致抗蚀剂
- 文献传递
- 嵌段共聚物的导向自组装
- 近年来,高度有序的纳米结构的制备逐渐成为纳米技术应用领域的热点和难点.一般而言,特征尺寸300nm以上的结构可以通过传统光刻技术得到,尺寸30-300nm的通过电子束光刻技术制得,而30nm以下很难通过传统的半导体光刻技...
- 王倩倩王力元
- 关键词：嵌段共聚物薄膜
- 文献传递
- 一种聚合物光产酸剂的制备及性质
- 化学增幅型光刻胶主要包含光产酸剂和成膜树脂,光产酸剂通常为小分子化合物,它与作为成膜树脂的聚合物在尺寸上存在固有的不兼容性,容易造成相分离以及后烘过程中的酸迁移问题,影响成像图形的分辨率,为了解决这一问题,可采用聚合物光...
- 王倩倩王力元
- 关键词：光刻胶成像质量
