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宋志

作品数:3 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 3篇电子束曝光
  • 1篇套刻
  • 1篇微细
  • 1篇微细加工
  • 1篇控制软件
  • 1篇控制系统
  • 1篇绘制图形
  • 1篇版图
  • 1篇版图设计
  • 1篇VC++6....

机构

  • 3篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 3篇韩立
  • 3篇魏淑华
  • 3篇宋志
  • 2篇薛虹
  • 1篇张今朝
  • 1篇段辉高

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇微计算机信息
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
基于VC++6.0的电子束曝光控制系统
2009年
随着纳米科技的迅速发展,下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统,需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的设计原理,并着重介绍了其对电子束曝光的全过程进行控制的强大功能。
宋志魏淑华薛虹韩立
关键词:电子束曝光控制系统绘制图形
三维微结构制作现状与进展被引量:2
2008年
随着微机电系统(MEMS)的深入研究和快速发展,三维微细加工技术对于微机电的开发和生产具有非常重要的意义。详细介绍了现阶段三维微结构各种制作方法和工艺技术,分析了其原理和特点,比较了各种方法的优劣;讨论了三维微结构开发现状及有待解决的关键技术,综述了利用电子束曝光技术进行三维微结构制作的应用现状并指出了其发展前景。
宋志魏淑华段辉高薛虹韩立
关键词:微细加工电子束曝光
电子束曝光控制软件系统设计与实现
2007年
电子束曝光系统作为复杂半导体加工设备,需要功能强健的控制软件系统来保证其正常运行。介绍了具有自主版权的EB(electron beam)Writer电子束曝光控制软件系统,它由版图绘制模块、对准控制模块和曝光控制模块组成,利用VC++6.0开发环境实现。实验结果表明,该软件系统可实现微光刻及微纳加工版图的绘制编辑和电子束曝光全过程的控制,且具有可扩展性,特别适用于各种由电子显微镜升级改造的电子束曝光系统。
魏淑华宋志张今朝韩立
关键词:电子束曝光控制软件版图设计套刻
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