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王晓明

作品数:12 被引量:8H指数:2
供职机构:辽宁科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学电气工程文化科学更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 5篇专利

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 5篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 8篇磁控
  • 7篇溅射
  • 7篇磁控溅射
  • 3篇数值模拟
  • 3篇溅射制备
  • 3篇磁控溅射制备
  • 3篇值模拟
  • 2篇等离子体
  • 2篇电腐蚀
  • 2篇数字化
  • 2篇半自动
  • 2篇场分布
  • 2篇磁场
  • 2篇磁场分布
  • 1篇弹簧
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇电脑控制器
  • 1篇镀膜

机构

  • 12篇辽宁科技大学
  • 1篇沈阳真空技术...
  • 1篇大连维钛克科...

作者

  • 12篇王晓明
  • 8篇周艳文
  • 4篇高健波
  • 3篇郭媛媛
  • 3篇武俊生
  • 2篇赵卓
  • 2篇解志文
  • 2篇吴川
  • 2篇李一鸣
  • 1篇李建伟
  • 1篇吴法宇
  • 1篇张绪跃
  • 1篇王亚男
  • 1篇王明磊
  • 1篇张鑫
  • 1篇张庆思

传媒

  • 2篇真空
  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇功能材料
  • 1篇发光学报
  • 1篇实验室研究与...

年份

  • 3篇2020
  • 2篇2018
  • 4篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种手机微信简单控制装置
本实用新型公开了一种手机微信简单控制装置,包括机械箱,机械箱的一侧固定连接有零件箱,机械箱的内壁固定连接有电机,电机的输出端固定连接有连接轴,且连接轴远离电机的一端与机械箱的内壁转动连接,连接轴的外表面开设有两个相对称的...
刘慧玲王晓明王语晨邱昱潘宇萌
文献传递
磁控溅射中等离子体电离机制的数值解析被引量:1
2017年
以圆柱形磁控溅射装置为研究对象,下极板外接通电线圈使之产生的磁场,并在上、下极板间施加直流电场,研究电磁场作用下等离子体中电子、离子、中性粒子和亚稳态离子分布。研究以Fortran语言自主编程,对所建立的模型用有限差分方法数值模拟。研究表明:辉光放电起始,电离项为等离子体中离子的主要来源;随着辉光放电趋于平衡,由一次电离、激发态二次电离等组成的累积电离项成为等离子体中离子的主体。达到稳定电离后,电子受磁场约束集中分布于下极板附近,从而使被电离的离子也集中分布于下极板附近。在距下极板15~40 cm区间内,离子分布较均匀。
王晓明高健波武俊生郭媛媛周艳文
关键词:等离子体磁控溅射数值模拟
一种多功能便携机防窃装置
本实用新型公开了一种多功能便携机防窃装置,涉及便携机技术领域,包括防窃装置外壳,所述防窃装置外壳的上表面固定铰接有铰接盖,所述铰接盖的内底壁固定连接有弹簧一和弹簧二。该多功能便携机防窃装置通过设置防窃装置外壳、弹簧一和弹...
杨明刚王晓明董鑫周子鑫齐树鑫李安
文献传递
粉末靶脉冲磁控溅射制备CrBMoS固体润滑硬质涂层
2017年
粉末靶封闭非平衡磁场脉冲磁控溅射是一种方便靶材配比、节约靶材成本的高效磁控溅射工艺,其特点是将固体粉末按成分需求配比,直接作为磁控靶体。CrB_2则因其高硬度而常被作为硬质耐磨材料使用,MoS_2因其低摩擦系数常作为固体润滑剂使用。本研究则将CrB_2和MoS_2两种粉末按Cr∶Mo原子比1∶1混合,利用粉末靶封闭非平衡磁场脉冲磁控溅射系统在304不锈钢表面制备硬质固体润滑涂层,探讨脉冲频率对CrBMoS涂层结构及性能的影响。用示波器测量靶电位曲线,分别用扫描电子显微镜、X射线衍射分析涂层形貌及相结构,表面形貌轮廓仪测量涂层厚,纳米压痕仪检测涂层纳米硬度,划痕仪测量涂层结合力及摩擦磨损实验机测量涂层摩擦系数。结果表明,在脉冲"开-关"状态转换时,靶电位由"负"转"正"过程中,"正"电位突升。随脉冲频率增高,涂层的沉积速率降低,沉积速率与有效沉积时间因子成正比。涂层致密、无缺陷,涂层晶体择优取向分别为CrB_2(111)及MoS_2(200)。涂层纳米硬度最高可达19 GPa,摩擦系数最小低至0.02。结果表明粉末靶封闭非平衡脉冲磁控溅射法制备的CrBMoS涂层具有较高硬度的同时,还具有良好的固体润滑效果。
周艳文高键波赵志伟王亚男解志文王晓明
关键词:固体润滑涂层硬质涂层
基于等离子体在磁控溅射增强的模拟被引量:1
2020年
磁控溅射为代表的真空法已经成为制备薄膜的主流方法,磁场分布、等离子体密度分布及其温度等因素会直接影响到薄膜的质量。因此,选择合适的模型研究磁控溅射过程中气体放电时等离子体粒子以及电子分布非常重要。本文根据气体放电的基本原理,对圆柱形溅射装置采用流体模型,以电子、离子、亚稳态离子和中性粒子为主要粒子的等离子体建立物理模型,采用有限差分方法对所建立的模型,利用计算机编程数值模拟了直流溅射系统内气体放电的过程得到等离子体粒子的分布以及电子温度分布特性的模拟结果。
王晓明鄂东梅武俊生张绪跃周艳文
关键词:等离子体磁控溅射离子分布
磁控溅射中电磁场分布二维模拟
2015年
本文采用计算机FORTRAN语言自主编程,通过建立通电线圈磁场的数学模型,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。计算表明当内、外线圈加反向电流,增加内或外线圈电流,可使通电线圈产生的磁场非平衡度增加,其增加强度由电流增加强度所决定。随着内或外线圈电流增加,真空腔内磁场强度分布更均匀。通过调节内、外电线圈电流,控制磁场分布,从而控制其对等离子体密度及能量分布,可使等离子体因磁场的均匀分布而在真空腔内分布均匀化。另外,这种外加的电磁场还会使磁控装置本体磁场增强,因此对磁控溅射产生的等离子体有增强作用。此结果为磁控溅射装置上磁场配置提供重要参考依据。
王晓明吴川周艳文张绪跃王复栋王明磊
关键词:磁场分布磁控溅射数值模拟
一种电腐蚀数字化半自动打标机系统
本实用新型涉及一种电腐蚀数字化半自动打标机系统,包括执行机构和打标机控制系统,执行机构包括机架、驱动装置、打标头装置、供液系统,驱动装置的标头电机、打标头装置的压力传感器、供液系统的蠕动泵与打标机控制系统相连接;打标机控...
王晓明陈育庆王腾张庆思李一鸣
文献传递
电磁场模拟磁控溅射装置中磁场的空间分布
2016年
通过建立通电线圈磁场的数学模型,采用FORTRAN语言自主编程,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。计算结果表明,当内、外线圈加反向电流,加大内或外线圈电流,可使线圈产生的磁场非平衡度增加。通过调节内、外线圈电流,控制磁场分布,而增加内或外线圈电流则可使真空腔内磁场强度分布更加均匀,从而控制了等离子体密度及能量分布,使等离子体在真空腔内分布均匀化。另外,这种外加的电磁场还会使磁控装置本体磁场增强,对磁控溅射产生的等离子体起到增强作用。此结果为磁控溅射装置上磁场配置提供重要参考依据。
王晓明高健波周艳文
关键词:磁场分布磁控溅射数值模拟
一种电腐蚀数字化半自动打标机
本实用新型涉及一种电腐蚀数字化半自动打标机,包括底座,底座上固定立杆,立杆上由夹块和锁紧螺栓固定横杆,横杆的前端固定导轨架板,导轨架板下部设有滑轨及电缆槽,导轨架板上端固定标头电机,标头电机输出端连接丝杠,丝杠上设有打标...
王晓明陈育庆王腾李一鸣
文献传递
磁控溅射制备本征ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜的性质研究被引量:4
2018年
室温下采用射频磁控溅射氧化锌(Zn O)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备Zn O/Ag/Zn O透明导电薄膜。首先,Zn O厚度为30 nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按Zn O:Ag厚度比为30:11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜,研究多层厚度对薄膜光电性能的影响。结果表明:Ag厚度为8 nm及11 nm的Zn O/Ag/Zn O表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内最高透过率达到90%及86%,并且方块电阻为6Ω/及3.20Ω/,具有优良的光电性;当按配比制备Zn O/Ag/Zn O 3层膜时,增加Zn O厚度对Ag层的增透作用反而减弱,同时增加Ag层厚度也会降低3层薄膜的整体光学性。
李彤周艳文王艳雪赵卓赵卓武俊生王晓明
关键词:透明导电薄膜射频磁控溅射镀膜
共2页<12>
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