高健波
- 作品数：9 被引量：8H指数：2
- 供职机构：辽宁科技大学更多>>
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- 相关领域：一般工业技术理学金属学及工艺更多>>
- 一种带氮化物保护层的石墨烯电极及其制备方法
- 本发明涉及一种带氮化物保护层的石墨烯电极及其制备方法，在载玻片基体或PET基体上覆有TiN或GaN薄膜，所述的薄膜厚度为30～50nm；采用真空热蒸镀法制备镀有氮化物保护层的石墨烯电极，在真空蒸发镀膜设备中加热蒸发物质使...
- 周艳文佟欣儒高健波孟见成吴法宇赵卓
- 文献传递
- SKH51钢表面渗氮及热丝增强等离子体磁控溅射制备氮化铬涂层
- 实验基于同一台热丝增强等离子体平衡磁控溅射镀膜机,在SKH51高速钢基体上分别实现等离子体渗氮和沉积氮化铬涂层,最后初步实现了渗氮镀膜一体化。在SKH51钢基体渗氮的实验中,主要研究渗氮时间与热丝放电电流对渗氮层的扩散速...
- 高健波
- 关键词：渗氮层等离子体增强
- 文献传递
- 一种带氮化物保护层的石墨烯电极及其制备方法
- 本发明涉及一种带氮化物保护层的石墨烯电极及其制备方法，在载玻片基体或PET基体上覆有TiN或GaN薄膜，所述的薄膜厚度为30～50nm；采用真空热蒸镀法制备镀有氮化物保护层的石墨烯电极，在真空蒸发镀膜设备中加热蒸发物质使...
- 周艳文佟欣儒高健波孟见成吴法宇赵卓
- 文献传递
- 氮气流量对热丝增强等离子体磁控溅射制备CrN_x薄膜组织结构与性能的影响被引量：6
- 2017年
- 采用热丝增强等离子体磁控溅射技术在SKD61钢基体上制备了CrN_x薄膜,并分析研究了不同氮气流量对薄膜相结构、组织形貌、粗糙度、厚度、耐磨性、膜基结合力以及纳米硬度和弹性模量的影响。结果表明:在较宽的氮气流量变化范围内可制备出厚度均匀、结构致密、高硬度及高耐磨性的CrN_x薄膜。随氮气流量增加,薄膜由Cr2N及CrN双相组成转变为CrN单相。由于复杂相及相取向的存在,氮气流量为90 mL/min的CrN_x薄膜内应力最大,膜基结合力最低。CrN_x薄膜使SKD61钢的纳米硬度、弹性模量及耐磨性能均大幅提高,最高纳米硬度及弹性模量分别达36 GPa,477 GPa。通过对材料韧性的综合评价,氮气流量为75 mL/min条件下所制得的以Cr_2N相为主的薄膜的韧性最佳。
- 张鑫周艳文高健波郭媛媛解志文吕哲
- 关键词：CRNX薄膜
- 磁控溅射中等离子体电离机制的数值解析被引量：1
- 2017年
- 以圆柱形磁控溅射装置为研究对象,下极板外接通电线圈使之产生的磁场,并在上、下极板间施加直流电场,研究电磁场作用下等离子体中电子、离子、中性粒子和亚稳态离子分布。研究以Fortran语言自主编程,对所建立的模型用有限差分方法数值模拟。研究表明:辉光放电起始,电离项为等离子体中离子的主要来源;随着辉光放电趋于平衡,由一次电离、激发态二次电离等组成的累积电离项成为等离子体中离子的主体。达到稳定电离后,电子受磁场约束集中分布于下极板附近,从而使被电离的离子也集中分布于下极板附近。在距下极板15~40 cm区间内,离子分布较均匀。
- 王晓明高健波武俊生郭媛媛周艳文
- 关键词：等离子体磁控溅射数值模拟
- 电磁场模拟磁控溅射装置中磁场的空间分布
- 2016年
- 通过建立通电线圈磁场的数学模型,采用FORTRAN语言自主编程,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。计算结果表明,当内、外线圈加反向电流,加大内或外线圈电流,可使线圈产生的磁场非平衡度增加。通过调节内、外线圈电流,控制磁场分布,而增加内或外线圈电流则可使真空腔内磁场强度分布更加均匀,从而控制了等离子体密度及能量分布,使等离子体在真空腔内分布均匀化。另外,这种外加的电磁场还会使磁控装置本体磁场增强,对磁控溅射产生的等离子体起到增强作用。此结果为磁控溅射装置上磁场配置提供重要参考依据。
- 王晓明高健波周艳文
- 关键词：磁场分布磁控溅射数值模拟
- 一种预防靶中毒的等离子体增强磁控溅射设备
- 本实用新型涉及一种预防靶中毒的等离子体增强磁控溅射设备，包括工件架、磁控靶、热丝线、真空镀膜室、反应气体气路管、惰性气体气路管，工件设置在工件架内，四个磁控靶均布在真空镀膜室四周，热丝线、反应气体气路管、惰性气体气路管设...
- 周艳文孟见成吴川高健波李建伟赵卓佟欣儒郭媛媛吴法宇王晓明
- 文献传递
- 粉末靶脉冲磁控溅射法制备MoS2CrB2固体润滑硬质涂层
- 按铬及钼原子比1：1比例将二硼化铬及二硫化钼均匀混合的粉末作靶体.脉冲磁控溅射法在314不锈钢及硅基体上同时制备混合成份涂层.分别用扫描电子显微镜、X射线衍射分析涂层形貌及相结构,表面形貌轮廓仪测量涂层厚,纳米压痕仪检测...
- 赵志伟周艳文高健波张鑫郭媛媛
- 关键词：固体润滑涂层
- 靶电流密度对热丝增强等离子磁控溅射制备Cr_2N薄膜结构与性能的影响被引量：2
- 2018年
- 采用等离子体增强平衡磁控溅射技术在316L奥氏体不锈钢基体表面制备了不同靶电流密度条件下的Cr_2N薄膜,并检测分析了靶电流密度对薄膜表面形貌、相结构、力学性能、膜基结合力和摩擦磨损性能的影响。结果表明,薄膜呈致密柱状结构,以Cr_2N(111)择优取向为主。当靶电流密度为0.132 mA/mm^2时,WN相与Cr_2N并存;随着靶电流密度的增加,薄膜厚度逐渐增加,硬度、弹性模量略有下降,膜基结合增强。薄膜与基体结合处呈脆性失效。靶电流密度0.132 mA/mm^2时,最高薄膜硬度及模量分别为33及480GPa,且磨损量最小。靶电流密度0.264mA/mm^2时,最大膜机结合力为36.6N。经过镀Cr_2N薄膜后,试样表面硬度、耐磨性明显提高。
- 张鑫王晓明高健波郭媛媛解志文周艳文
