2024年12月16日
星期一
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
李彭瑞
作品数:
9
被引量:0
H指数:0
供职机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
更多>>
相关领域:
电子电信
文化科学
更多>>
合作作者
潘斌
中国电子科技集团公司第五十五研...
陈堂胜
中国电子科技集团公司第五十五研...
任春江
中国电子科技集团公司第五十五研...
刘鑫
中国电子科技集团公司第五十五研...
吴少兵
中国电子科技集团公司第五十五研...
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
9篇
中文专利
领域
2篇
电子电信
1篇
文化科学
主题
3篇
子层
3篇
半导体
2篇
烧结特性
2篇
酸溶液
2篇
酸液
2篇
体系结构
2篇
可重复性
2篇
化合物半导体
2篇
化合物半导体...
2篇
碱溶液
2篇
半导体器件
2篇
金
2篇
操作工艺
2篇
超声
2篇
超声清洗
1篇
电阻
1篇
镀钯
1篇
氧化层
1篇
有机试剂
1篇
圆片
机构
9篇
中国电子科技...
作者
9篇
李彭瑞
6篇
潘斌
3篇
任春江
3篇
陈堂胜
2篇
林罡
2篇
邹鹏辉
2篇
王彦硕
2篇
吴少兵
2篇
刘鑫
1篇
章军云
1篇
胡俊伟
年份
2篇
2023
2篇
2022
2篇
2021
1篇
2020
2篇
2016
共
9
条 记 录,以下是 1-9
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
一种深孔图形光刻胶填充方法
本发明涉及一种深孔图形的光刻胶填充方法,通过表面处理使圆片表面和深孔侧壁及底部形成一层薄氧化层,利用溶剂与该氧化层的接触角小于90°,使得溶剂对深孔的侧壁和底部具有良好的浸润性,从而实现对深孔的无孔化填充,其包括以下步骤...
李彭瑞
潘斌
任春江
陈堂胜
文献传递
用于半导体背面通孔金属化种子层的化学镀钯方法
本发明公开了一种用于半导体背面通孔金属化种子层的化学镀钯方法,通过强酸环境中钯离子及还原剂与半导体材料和金属表面发生强氧化还原反应在半导体材料和金属表面置换出一层钯晶种,其后在钯化学镀液中通过镀液的自激发在钯晶种上持续沉...
邹鹏辉
王彦硕
潘斌
李彭瑞
胡俊伟
刘鑫
文献传递
一种用于超薄半导体圆片的临时键合方法及去键合方法
本发明公开了一种用于超薄半导体圆片的临时键合方法及去键合方法,通过第一键合剂与第一有机试剂、第二键合剂与第二有机试剂的配套使用,能够有效降低超薄半导体圆片在背面工艺过程中的裂片率,芯片成品率高。半导体圆片与载体片分离的过...
邹鹏辉
王彦硕
潘斌
李彭瑞
刘鑫
文献传递
一种高精度磷化铟太赫兹集成在片探针制备方法
本发明公开了一种高精度磷化铟太赫兹集成在片探针制备方法。其主要步骤有:将圆片减薄并完成背面工艺;完成集成在片探针边缘蚀刻图案的光刻;采用干法及湿法腐蚀工艺蚀刻出探针边缘;完成圆片分离并转移至UV膜上,使用划片机划切;清洗...
孙远
吴少兵
林浩
潘棋
潘斌
李彭瑞
一种半导体晶圆刻蚀后清洗方法
本发明公开了一种半导体晶圆刻蚀后清洗方法,包括步骤一:对半导体晶圆采用酸液进行预洗;步骤二:采用高压二流体碱溶液进行冲洗;步骤三:采用酸溶液进行清洗;步骤四:采用高压二流体碱溶液进行冲洗;步骤五:采用碱溶液进行超声清洗;...
李彭瑞
任春江
潘斌
陈堂胜
文献传递
提高化合物半导体器件可靠性的背金体系结构及制备方法
本发明公开了提高化合物半导体器件可靠性的背金体系结构及制备方法,所述背金体系结构是在化合物半导体圆片的背孔和背面依次形成种子层、第一背金层、第一阻挡层、第二背金层和第二阻挡层,所述第一阻挡层覆盖圆片的背孔和背金,所述第二...
邵国键
陈韬
李彭瑞
林罡
一种带正反面欧姆接触电极的SiC基GaN肖特基二极管及其制作方法
本发明公开了一种带正反面欧姆接触电极的SiC基GaN肖特基二极管,包括:从下到上SiC衬底、GaN过渡层、高掺杂GaN层、低掺杂GaN层和形成在高掺杂GaN层上的第一阴极、形成在低掺杂GaN层上的肖特基阳极、形成在SiC...
代鲲鹏
吴少兵
章军云
李彭瑞
梁宗文
葛建雷
提高化合物半导体器件可靠性的背金体系结构及制备方法
本发明公开了提高化合物半导体器件可靠性的背金体系结构及制备方法,所述背金体系结构是在化合物半导体圆片的背孔和背面依次形成种子层、第一背金层、第一阻挡层、第二背金层和第二阻挡层,所述第一阻挡层覆盖圆片的背孔和背金,所述第二...
邵国键
陈韬
李彭瑞
林罡
文献传递
一种半导体晶圆刻蚀后清洗方法
本发明公开了一种半导体晶圆刻蚀后清洗方法,包括步骤一:对半导体晶圆采用酸液进行预洗;步骤二:采用高压二流体碱溶液进行冲洗;步骤三:采用酸溶液进行清洗;步骤四:采用高压二流体碱溶液进行冲洗;步骤五:采用碱溶液进行超声清洗;...
李彭瑞
任春江
潘斌
陈堂胜
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张