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董旭坤

作品数:2 被引量:4H指数:1
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇研磨
  • 1篇数对
  • 1篇抛光
  • 1篇金属薄膜
  • 1篇溅射
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇光学
  • 1篇光学表面
  • 1篇附着力
  • 1篇表面疵病
  • 1篇超声波清洗
  • 1篇疵病
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇重庆光电技术...

作者

  • 2篇袁礼华
  • 2篇董旭坤
  • 1篇袁中朝
  • 1篇许健

传媒

  • 1篇半导体光电
  • 1篇中文科技期刊...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
平面玻璃窗口片光学表面零级疵病抛光工艺研究被引量:4
2013年
总结了窗口片的抛光工艺现状,对玻璃窗口片的研磨、抛光和清洗原理及主要工艺因素进行了详细的分析。在考虑磨料、抛光辅料、环境、清洗工艺、抛光液浓度及pH值、磨盘转速、压力等多种工艺条件的基础上,进行了多次实验,并对抛光工艺改进前后的窗口片表面进行了扫描电镜(SEM)检测。结果表明,使用新抛光工艺加工的窗口片表面粗糙度、擦痕等微观缺陷明显得到改善,零级表面疵病标准的成品率达到23%。
袁礼华许健董旭坤
关键词:表面疵病研磨抛光超声波清洗
磁控溅射工艺参数对金属薄膜性能的影响
2022年
溅射金属化技术由于其金属层附着力好,金属化层致密度高,是当前金属化工艺的主要方式。本文采用直流磁控溅射技术在蓝宝石基片表面制备Cr-Ni-Au结构的金属化复合薄膜,从理论和实验上研究分析了磁控溅射工艺参数对薄膜性能的影响;采用AFM、SEM等对膜层进行微观形貌及成膜质量的分析。研究表明:当本底真空度≥3×10-4Pa,基片温度为常温,Au的溅射功率为300W,溅射气压0.20Pa,热处理温度200℃时,蓝宝石上沉积的铬镍金复合膜层有较好结合力,且低温焊接性能良好。
董旭坤陈昌隆张胜南袁中朝袁礼华
关键词:磁控溅射金属薄膜工艺参数附着力
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