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文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇等离子清洗
  • 2篇封装
  • 2篇封装工艺
  • 1篇在线式
  • 1篇清洗技术
  • 1篇微波
  • 1篇静电损伤
  • 1篇二极管
  • 1篇发光
  • 1篇发光二极管
  • 1篇IC封装
  • 1篇LCD
  • 1篇LED

机构

  • 3篇中国电子科技...

作者

  • 3篇马良
  • 2篇马斌
  • 1篇牛进毅
  • 1篇程丕俊
  • 1篇师筱娜
  • 1篇苗俊芳
  • 1篇刘畅

传媒

  • 2篇电子工业专用...
  • 1篇山西电子技术

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
微波等离子清洗技术在LCD中的应用被引量:1
2012年
微波等离子清洗技术具有优越的环境特性和去污能力,但传统产生等离子体的不足限制了等离子清洗技术在工业中的应用,近期等离子领域的理论研究及实践表明通过改变等离子体的生成条件,使用微波产生等离子可以避免清洗中产生的静电损伤,从而为扩展等离子技术在工业中的应用提供可能。在此介绍了等离子清洗机的基本原理和方法,分析了微波等离子清洗机在LCD中的应用,并针对LCD产业中存在的主要问题提出了可行的改进方法。
马良苗俊芳牛进毅
关键词:等离子清洗静电损伤微波
在线式等离子清洗在封装中的应用被引量:1
2011年
IC封装工艺过程中,芯片表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品质量,如果在封装工艺过程中的装片前、引线键合前及塑封固化前进行等离子清洗,则可有效去除这些污染物。介绍了在线式等离子清洗设备及清洗原理,并对清洗前后的效果做了对比。
刘畅马斌马良
关键词:IC封装封装工艺
等离子清洗在LED封装工艺中的应用
2012年
在LED封装工艺过程中,器件表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品可靠性,影响产品质量。如在封装前进行等离子清洗,则可有效去除上述污染物。介绍了等离子清洗设备原理,并对清洗前后的效果做了对比。
马斌程丕俊师筱娜马良
关键词:等离子清洗发光二极管
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