张立东
- 作品数：5 被引量：12H指数：2
- 供职机构：四川大学更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金四川省科技支撑计划更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 双层高熵合金扩散阻挡层的制备方法
- 本发明公开了一种双层高熵合金扩散阻挡层的制备方法，主要包含以下步骤：将单晶Si基体进行超声波清洗；采用反溅射清洗去除单晶Si基体中杂质，采用预溅射清洗去除靶材和靶片中的杂质；在通入Ar和N流量比为1：(0.65～0.9)...
- 汪渊石云龙张立东
- 文献传递
- AlCrTaTiNi/(AlCrTaTiNi)N双层扩散阻挡层的制备及热稳定性被引量：4
- 2013年
- 通过多靶共溅射的方法,制备了(AlCrTaTiNi)N和双层AlCrTaTiNi/(A1CrTaTiNi)N扩散阻挡层,并利用XRD,EDS和SEM研究了其组织结构、相组成及在高温下的热稳定性能.结果表明Cu/(A1CrTaTiNi)N/Si经500℃退火后界面处已有脱开倾向,700℃后Cu膜则完全脱落.AlCrTaTiNi可增强Cu和(A1CrTaTiNi)N的粘附性.AlCrTaTiNi/(AlCrTaTiNi)N经800℃退火后仍能起到有效的扩散阻挡性能,900℃下出现了深能级的Cu-Si相,方块电阻急剧升高,表明该阻挡层失效.
- 张立东王飞陈顺礼汪渊
- 关键词：高熵合金热稳定性
- 晶体AlCrTaTiNi高熵合金薄膜被引量：8
- 2012年
- 用多靶射频磁控溅射技术,在纯氩气氛中不同溅射功率(40～100W)下在Si(100)基底上制备晶体AlCrTaTiNi高熵合金薄膜。同时用四点探针(FPP)X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及其附带的能谱分析仪对薄膜的电性能和微结构进行表征。分析结果表明AlCrTaTiNi高熵合金薄膜在溅射功率为80W时的晶粒尺寸最大,电阻率最低,为160μΩ.cm左右。同时截面SEM形貌显示形成的晶体并非柱状晶体。
- 张立东刘春海孙化冬张伟
- 关键词：高熵合金晶粒尺寸溅射功率膜厚
- 双层高熵合金扩散阻挡层的制备方法
- 本发明公开了一种双层高熵合金扩散阻挡层的制备方法，主要包含以下步骤：将单晶Si基体进行超声波清洗；采用反溅射清洗去除单晶Si基体中杂质，采用预溅射清洗去除靶材和靶片中的杂质；在通入Ar和N流量比为1：(0.65～0.9)...
- 汪渊石云龙张立东
- 文献传递
- 常温低氮氩比下(002)择优取向氮化铝薄膜的制备
- 2011年
- 常温下采用反应射频磁控溅射方法在玻璃基底上制备出(002)单一择优取向柱状结构的氮化铝薄膜,通过XRD分析发现溅射功率为80W、溅射气压为0.20 Pa、氮气与氩气比为5%时,氮化铝(002)晶体衍射峰最强,通过FESEM表面及截面分析表明在此条件下得到的氮化铝薄膜表面较平整、致密性较好.
- 孙化冬彭冬香张伟张立东刘望汪渊
- 关键词：AIN薄膜射频反应磁控溅射沉积速率
