温楚雄
- 作品数：3 被引量：0H指数：0
- 供职机构：广东工业大学更多>>
- 发文基金：中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 一种柔性衬底ZnS薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种柔性衬底ZnS薄膜的制备方法，它采用在柔性衬底材料上采用先磁控溅射沉积金属Zn薄膜，再进行硫化处理的方法制备ZnS薄膜，具体步骤如下：选用金属Zn靶作为溅射靶材；对柔性衬底材料进行清洗；利用磁控溅射方法，...
- 许佳雄杨元政谢致薇陈先朝何玉定曹中明辛辅炼魏坚烽黄俊彬温楚雄邱莎莎
- 文献传递
- 射频磁控溅射法在柔性聚酰亚胺衬底上制备ZnS薄膜及其特性研究
- 2015年
- 为使Ⅱ-Ⅵ族化合物ZnS薄膜具有可弯曲性,选用柔性的聚酰亚胺作为衬底材料,用射频磁控溅射法沉积ZnS薄膜,对所制备薄膜的结晶结构、组分和光学特性进行分析。实验结果表明,所制备薄膜为结晶态的闪锌矿ZnS结构,择优取向为(111)晶面,晶粒尺寸为25.6nm。薄膜组分接近化学计量比,并具有少量的S损失。薄膜在可见光区和近红外光区的平均透射率分别为82.0%和90.5%,透光特性良好。作为对比,在钠钙玻璃衬底上溅射的ZnS薄膜的结晶度高于聚酰亚胺衬底薄膜,但其透射率略低于柔性ZnS薄膜。实验结果表明了用磁控溅射法在柔性聚酰亚胺衬底上制备ZnS薄膜的可行性。
- 许佳雄辛辅炼魏坚烽黄俊彬温楚雄邱莎莎
- 关键词：ZNS薄膜柔性衬底磁控溅射XRD透射率
- 一种柔性衬底ZnS薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种柔性衬底ZnS薄膜的制备方法，它采用在柔性衬底材料上采用先磁控溅射沉积金属Zn薄膜，再进行硫化处理的方法制备ZnS薄膜，具体步骤如下：选用金属Zn靶作为溅射靶材；对柔性衬底材料进行清洗；利用磁控溅射方法，...
- 许佳雄杨元政谢致薇陈先朝何玉定曹中明辛辅炼魏坚烽黄俊彬温楚雄邱莎莎
- 文献传递
