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葛钟

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇硅片
  • 2篇硅片表面
  • 1篇圆柱
  • 1篇圆柱体
  • 1篇真空吸盘
  • 1篇使用期
  • 1篇损伤层
  • 1篇通气
  • 1篇通气管
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇气管
  • 1篇柱体
  • 1篇橡胶
  • 1篇橡胶材料
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇SI
  • 1篇HAZE

机构

  • 3篇北京有色金属...

作者

  • 3篇葛钟
  • 2篇盛方毓
  • 2篇库黎明
  • 2篇索思卓
  • 2篇陈海滨
  • 1篇闫志瑞
  • 1篇阎志瑞
  • 1篇黄军辉
  • 1篇张国栋

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇微电子学

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
300mm硅片表面延性磨削机理研究
2009年
根据脆性材料实现延性磨削时存在临界深度的理论，通过设定磨削参数，使之满足硅片的延性磨削条件。利用扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）对磨削硅片表面和截面进行分析研究。研究结果表明：硅片表面形成规律的磨削印痕，且磨削印痕微弱，在硅片表面留下的磨削沟槽保留延性磨削特征，硅片表面无微细裂纹和因脆性崩裂产生的凹坑；硅片截面明显地分为非晶层、次表面损伤层、单晶硅层，非晶层厚度约为50～100nm，表面微细裂纹完全消失，次表面损伤层厚度约为50～150nm，次表面损伤层存在微细裂纹。
葛钟库黎明陈海滨盛方毓索思卓闫志瑞
关键词：损伤层
一种真空吸盘
一种真空吸盘，它包括一截面为“凸”字形的圆柱体支架，一V型圈，一本体，截面为“凸”字形的圆柱体支架设一气流通道，本体为一中空通气管，于本体侧面设一突出端口，突出的端口中空并与本体通气管连通，本体侧面突出的端口插入截面为“...
葛钟闫志瑞库黎明陈海滨索思卓张国栋盛方毓黄军辉
文献传递
抛光垫使用期对300mm Si片Haze值影响研究被引量：1
2008年
抛光垫是化学机械抛光(CMP)过程中重要的消耗材料之一。由于抛光垫与Si片直接接触,所以抛光垫的物理特性会直接影响到所加工Si片品质的优劣。通过研究不同使用时间的抛光垫结构以及所抛光Si片表面haze值,发现抛光Si片表面haze值在抛光垫使用前期逐渐减小,中期稳定缓慢升高,后期快速升高。从理论上系统地对结果进行了分析,充分证实了在CMP过程中,保持抛光垫特性的稳定对Si片表面质量具有非常重要的意义。
索思卓库黎明黄军辉葛钟陈海滨张国栋盛方毓阎志瑞
关键词：抛光垫化学机械抛光HAZE
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