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杨也

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：南京航空航天大学机电学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇低压
  • 1篇低压电
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学沉积
  • 1篇水冷
  • 1篇气相沉积
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇化学合成类
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇基底
  • 1篇光谱
  • 1篇RAMAN光...
  • 1篇SEM

机构

  • 2篇南京航空航天...

作者

  • 2篇朱其豹
  • 2篇相炳坤
  • 2篇孟兆升
  • 2篇杨也
  • 2篇李文帅

传媒

  • 1篇机械制造与自...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
低压电化学合成类金刚石薄膜研究
2013年
采用液相电化学沉积方法,以乙醇为碳源,并加入含有KCI的去离子水溶液,在较低电压下(60 V以下),在铜基底上沉积出类金刚石(DLC)薄膜。用SEM表征薄膜表面形貌,用Raman光谱表征薄膜成份结构。结盟表明,少量KCI的加入,能够大幅降低沉积电压并提高DLC的沉积速率;沉积出的类金刚石膜均为连续,有较低的表面粗糙度;SP3碳键含量较高(约为30%)。
朱其豹相炳坤李文帅杨也孟兆升王信智
关键词：类金刚石薄膜电化学沉积SEMRAMAN光谱
一种减少化学气相沉积过程中杂质沉积的装置及方法
本发明公开了一种减少化学气相沉积过程中杂质沉积的装置及方法。该装置包括反应室、基底、基底安装机构、抽气系统、以及固定在反应室内的水冷支撑台和等离子体激发源；水冷支撑台固定在反应室上端，且台面朝下；基底的上表面通过基底安装...
相炳坤朱其豹王信智杨也李文帅孟兆升
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