孟兆升
- 作品数：7 被引量：4H指数：1
- 供职机构：南京航空航天大学机电学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程理学一般工业技术更多>>
- 直流等离子体喷射法制备氮化碳涂层的研究
- 2013年
- 氮化碳因预言具有超金刚石硬度、高热稳定性及优异的摩擦磨损性能,在刀具涂层的应用领域具有巨大的潜力,引起了世界上科研工作者的广泛关注。本文以CF4+N2+H2+Ar为反应气体,通过直流等离子体喷射法(DC Plasma Jet CVD),在Si[100]基底上以金刚石薄膜为过渡层,成功制备了氮化碳涂层。利用扫描隧道显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱(Raman)等现代理化测试手段,对所制备涂层的表面形貌、成分结构进行了表征和分析。研究结果表明:所制备的涂层中金刚石过渡层表面生长了线度约300-600nm的C3N4晶粒,为亚微米级别,晶形较为清晰,呈现不规整的柱状,样品中主要含有α-C3N4与β-C3N4,涂层中N的含量为9.8%。
- 李文帅相炳坤庆振华左敦稳孟兆升
- 关键词：工艺参数
- 直流电弧等离子体喷射法制备氮化碳薄膜研究被引量：3
- 2014年
- 以H2、N2和CF4气体为前驱体,用直流电弧等离子体喷射设备在不同基底温度条件下于钼/金刚石过渡层基底上制备了氮化碳薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)对表面形貌和组织成分进行了表征。结果表明,当基底温度为900℃时,所沉积材料已初具晶型;所沉积材料含有α-C3N4和β-C3N4相成分。同时,提出在金刚石表面制备氮化碳时金刚石相刻蚀和氮化碳相生长同时进行的模型,较好地解释了不同基底温度条件下的膜材料沉积现象。
- 孟兆升相炳坤王仕杰李文帅熊鹰解晖余琦佩
- 关键词：氮化碳刻蚀
- 等离子体CVD法制备氮化碳涂层的理论与实验研究
- 晶体氮化碳材料是一种在自然界未被发现的新型超硬材料，α、β、立方和准立方相氮化碳的体弹性模量都能够媲美甚至超过金刚石。另外，优异的化学惰性和耐磨性也使得晶体氮化碳有望在刀具涂层方面有突出的表现。 本文开展了等离子体CV...
- 孟兆升
- 关键词：氮化碳刀具涂层
- 文献传递
- 拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜抛光工艺研究
- 2018年
- 化学气相沉积(CVD)金刚石一般无法直接应用,需要对其进行抛光处理。在熟悉平面厚膜抛光的机理基础上,采用自制抛光的设备,对拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜进行机械抛光工艺的研究,借助表面粗糙度仪、扫描电子显微镜(SEM)对抛光前后及抛光过程中金刚石的表面形貌进行了观察,并对抛光过程进行了分析,研究表明:采用先粗抛光后半精抛光的工艺较为理想。
- 周思浩相炳坤王仕杰苏文玉孟兆升王轶群
- 关键词：CVD金刚石薄膜机械抛光表面形貌
- 低压电化学合成类金刚石薄膜研究
- 2013年
- 采用液相电化学沉积方法,以乙醇为碳源,并加入含有KCI的去离子水溶液,在较低电压下(60 V以下),在铜基底上沉积出类金刚石(DLC)薄膜。用SEM表征薄膜表面形貌,用Raman光谱表征薄膜成份结构。结盟表明,少量KCI的加入,能够大幅降低沉积电压并提高DLC的沉积速率;沉积出的类金刚石膜均为连续,有较低的表面粗糙度;SP3碳键含量较高(约为30%)。
- 朱其豹相炳坤李文帅杨也孟兆升王信智
- 关键词：类金刚石薄膜电化学沉积SEMRAMAN光谱
- 一种减少化学气相沉积过程中杂质沉积的装置及方法
- 本发明公开了一种减少化学气相沉积过程中杂质沉积的装置及方法。该装置包括反应室、基底、基底安装机构、抽气系统、以及固定在反应室内的水冷支撑台和等离子体激发源；水冷支撑台固定在反应室上端，且台面朝下；基底的上表面通过基底安装...
- 相炳坤朱其豹王信智杨也李文帅孟兆升
- 文献传递
- CVD金刚石涂层拉伸模具内孔的抛光装置研制被引量：1
- 2017年
- 在CVD金刚石膜抛光机理研究的基础上,采用模块化的设计思想,对抛光装置的模具装夹及传动模块、抛光头及传动模块、高频感应加热模块、抛光装置床身模块进行了设计,完成了CVD金刚石涂层拉伸模具内孔的抛光装置的研制。用此装置抛光在保证较高的抛光效率的同时可以获得较好的表面质量。
- 王仕杰相炳坤周思浩孟兆升朱其豹
- 关键词：抛光
