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文献类型

  • 6篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 5篇磷化铟
  • 4篇铟镓砷
  • 3篇异质结
  • 3篇异质结界面
  • 3篇双异质结
  • 3篇集电区
  • 2篇渡越时间
  • 2篇圆片
  • 2篇气体
  • 2篇气体流量
  • 2篇温度降
  • 2篇量调节
  • 2篇流量调节
  • 2篇光电
  • 2篇保护气体
  • 2篇MOCVD
  • 1篇淀积
  • 1篇雪崩
  • 1篇雪崩光电二极...
  • 1篇异质结双极晶...

机构

  • 9篇中国电子科技...

作者

  • 9篇张宇
  • 9篇车相辉
  • 9篇于浩
  • 8篇陈宏泰
  • 6篇王晶
  • 6篇郝文嘉
  • 4篇位永平
  • 4篇林琳
  • 2篇赵润
  • 1篇尹顺政
  • 1篇杨中月
  • 1篇齐利芳
  • 1篇宁吉丰
  • 1篇尹顺正
  • 1篇李庆伟
  • 1篇杨实

传媒

  • 3篇半导体技术

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 4篇2017
  • 3篇2016
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
一种磷化铟基双异质结双极型晶体管外延层结构
本发明涉及双异质结双极晶体管(DHBT)技术领域,尤其是涉及npn型InGaAs/InP DHBT技术领域,具体公开了一种磷化铟基双异质结双极型晶体管外延层结构,自磷化铟衬底向上依次包括轻掺杂的N型磷化铟集电区层、能带渐...
张宇陈宏泰车相辉林琳位永平王晶郝文嘉于浩
文献传递
GaAs平面掺杂势垒二极管
2017年
二极管是定向检波器的重要组件,提高定向检波器的检波灵敏度,需要降低二极管的开启电压。而平面掺杂势垒(PDB)二极管具有极低的势垒高度,适合制作定向检波器。设计了GaAs平面掺杂势垒二极管的材料结构,并采用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)方法对其进行外延生长。对PDB二极管的物理模型进行了理论分析。通过模拟计算和实验分析了本征层厚度和p层的面电荷密度对PDB二极管I-V特性的影响。通过实验设计优化了材料结构参数,测试了其I-V特性,使PDB二极管的开启电压降低到了0.06 V,将此样品应用到定向检波器中测得检波灵敏度为20~25 mV/mW。
张宇车相辉于浩宁吉丰杨中月杨实陈宏泰
关键词:开启电压I-V特性
提高P型铟镓砷薄膜掺杂浓度的方法、薄膜的制备方法及其应用
本发明涉及P型铟镓砷薄膜生长技术领域,具体公开了提高P型铟镓砷薄膜掺杂浓度的方法,将掺杂碳的铟镓砷薄膜,在氮气环境下进行降温退火,退火温度从550±10℃均匀降到400±10℃,时间为5±1min,压力为50±5mbar...
张宇陈宏泰车相辉林琳位永平王晶郝文嘉于浩
文献传递
一种磷化铟基双异质结双极型晶体管外延层结构
本发明涉及双异质结双极晶体管(DHBT)技术领域,尤其是涉及npn型InGaAs/InP?DHBT技术领域,具体公开了一种磷化铟基双异质结双极型晶体管外延层结构,自磷化铟衬底向上依次包括轻掺杂的N型磷化铟集电区层、能带渐...
张宇陈宏泰车相辉林琳位永平王晶郝文嘉于浩
文献传递
磷化铟扩散方法
本发明公开了一种磷化铟扩散方法,涉及半导体器件的制作方法技术领域。所述方法包括如下步骤:将磷化铟待扩散圆片放入MOCVD设备中,调节MOCVD的反应室总气体流量至所需值,氮气气氛转换为氢气气氛后升温,进行表面保护,继续升...
于浩张宇陈宏泰车相辉王晶
文献传递
磷化铟扩散方法
本发明公开了一种磷化铟扩散方法,涉及半导体器件的制作方法技术领域。所述方法包括如下步骤:将磷化铟待扩散圆片放入MOCVD设备中,调节MOCVD的反应室总气体流量至所需值,氮气气氛转换为氢气气氛后升温,进行表面保护,继续升...
于浩张宇陈宏泰车相辉王晶
InP基光电探测器材料的MOCVD锌扩散
2017年
锌(Zn)扩散是制作InP基光电探测器(PD)的重要工艺过程。分析了锌扩散的机制,利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备对InP基PD及雪崩光电探测器(APD)材料进行了锌扩散,由于MOCVD设备具有精确的温度控制系统,所以该扩散工艺具有简单、均匀性好、重复性好的优点。对于扩散后的样品,采用电化学C-V方法和扫描电子显微镜(SEM)等测试分析手段,研究了退火、扩散温度、扩散源体积流量和反应室压力等主要工艺参数对InP材料扩散速率和载流子浓度的影响,并将该锌扩散工艺应用于InP基光电探测器和雪崩光电探测器的器件制作中,得到了优异的器件性能结果。
张宇于浩郝文嘉车相辉尹顺正齐利芳赵润陈宏泰
关键词:INP光电探测器
10 Gbit/s InGaAs/InP雪崩光电二极管被引量:1
2017年
基于InGaAs/InP吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD)器件结构,利用数值计算方法,模拟了各层参数对器件频率响应特性的影响。模拟结果表明,吸收层、倍增层厚度及电荷层面电荷密度可影响器件的-3dB带宽;随增益的增加,器件带宽会逐渐降低;电荷层面电荷密度对器件击穿电压有明显影响。结合此模拟结果,制作出了高速InGaAs/InP雪崩光电二极管,并对器件进行了封装测试。测试结果表明,该结果与模拟结果相吻合。器件击穿电压为30V;在倍增因子为1时,器件响应度大于0.8A/W;在倍增因子为9时,器件暗电流小于10nA,-3dB带宽大于10GHz,其性能满足10Gbit/s光纤通信应用要求。
尹顺政郝文嘉张宇于浩李庆伟赵润车相辉
关键词:INGAAS/INP雪崩频率响应光通信
一种磷化铟基双异质结双极型晶体管外延层结构
本实用新型涉及双异质结双极晶体管(DHBT)技术领域,尤其是涉及npn型InGaAs/InP?DHBT技术领域,具体公开了一种磷化铟基双异质结双极型晶体管外延层结构,自磷化铟衬底向上依次包括轻掺杂的N型磷化铟集电区层、能...
张宇陈宏泰车相辉林琳位永平王晶郝文嘉于浩
文献传递
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