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杨红伟

作品数：1 被引量：7H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第十三研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氮化镓
  • 1篇退火
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体材料

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇张会肖
  • 1篇武喜龙
  • 1篇张荣桂
  • 1篇杨红伟

传媒

  • 1篇半导体情报

年份

  • 1篇2001
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
氮化镓研制中的退火技术被引量：7
2001年
总结了 Ga N薄膜生长和器件制备中退火技术的应用情况 ,其中涉及退火工艺过程、作用机理以及由此产生的影响。
张会肖武喜龙杨红伟张荣桂
关键词：退火半导体材料氮化镓
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共1页<1>
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