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领域

  • 1篇理学

主题

  • 2篇金刚石膜
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  • 1篇水套
  • 1篇气相生长
  • 1篇化学气相
  • 1篇回水
  • 1篇CVD

机构

  • 2篇河北省机电一...
  • 1篇北京科技大学

作者

  • 2篇唐才先
  • 2篇罗廷礼
  • 2篇张永贵
  • 2篇臧建民
  • 1篇吕反修
  • 1篇杜素梅
  • 1篇梁风荣
  • 1篇王志娜
  • 1篇李国华

传媒

  • 1篇河北省科学院...

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1999
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
一种气相生长金刚石膜的反应室
一种气相生长金刚石膜的反应室,包括等离子弧喷射装置、电机及导轨,等离子弧喷射装置装在盖体中部,盖体联接双层密封罩,双层密封罩上有观察窗,观察窗的顶端联接视镜,上述等离子弧喷射装置的外部、双层密封罩的夹层及观察窗的顶部均有...
张永贵梁风荣臧建民唐才先杜素梅王志娜罗廷礼李国华
文献传递
化学气相沉积金刚石膜的硬度
1999年
使用力驱动静态超微压痕测量仪器(Force Driven Static Measuring Ultra Micro- Inden-tation System )- UMIS- 2000 对由直流等离子体喷射法沉积的金刚石膜进行测量。结果显示金刚石膜的硬度不仅与晶体生长方向和晶粒大小有关,还与厚度有关。生长面和与基底接触面的金刚石膜硬度也有区别。后者被认为由于随机取向的微小晶粒占优势,其硬度比生长面略高。在所进行的测量中,硬度值在90GPa左右。
唐才先罗廷礼张永贵臧建民潘存海石尔平吕反修唐伟中钟国仿M.Samandi
关键词:CVD金刚石膜
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