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张伟
作品数:
21
被引量:8
H指数:1
供职机构:
中国科学院上海高等研究院
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相关领域:
电子电信
一般工业技术
核科学技术
自动化与计算机技术
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合作作者
刘东方
中国科学院上海高等研究院
王聪
中国科学院上海高等研究院
陈小源
中国科学院上海高等研究院
鲁林峰
中国科学院上海高等研究院
杨辉
中国科学院上海高等研究院
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自动化与计算...
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机构
21篇
中国科学院上...
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中国科学院上...
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清华大学
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中国科学院大...
作者
21篇
张伟
15篇
刘东方
13篇
陈小源
13篇
王聪
7篇
杨辉
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鲁林峰
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杨康
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刘洪超
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李明
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汪昌州
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方小红
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1篇
2014
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半导体同质衬底及其制备方法、同质外延层的制备方法
本发明提供一种半导体同质衬底及其制备方法、同质外延层的制备方法,其中,所述半导体同质衬底的制备方法至少包括如下步骤:提供一母衬底;于所述母衬底表面形成至少由若干个周期结构单元组成的周期结构;于所述母衬底及周期结构表面形成...
刘东方
张伟
曾煌
王聪
李纪周
陈小源
鲁林峰
文献传递
层转移单晶硅薄膜用籽晶衬底的微接触湿法刻蚀制备方法
本发明提供一种层转移单晶硅薄膜用籽晶衬底的微接触湿法刻蚀制备方法,所述方法包括:1)提供第一硅衬底,刻蚀形成硅柱阵列;2)于所述第一硅衬底及硅柱阵列表面形成实现选择性外延生长的阻挡层;3)形成疏水有机分子膜;4)提供第二...
刘东方
曾煌
张伟
王聪
李纪周
陈小源
文献传递
一种双周期波荡器
本发明提供一种双周期波荡器,包括彼此可相对移动的上下磁载结构、固定于下磁载结构上的两个磁体阵列结构、以及固定于上磁载结构上的两个磁体阵列结构,其中四个磁体阵列结构两两组成第一和第二波荡器;四个磁体阵列结构在z方向上的相对...
周蜀东
张伟
相升旺
朱亚
雷阳阳
层转移单晶硅薄膜用籽晶衬底的微接触湿法刻蚀制备方法
本发明提供一种层转移单晶硅薄膜用籽晶衬底的微接触湿法刻蚀制备方法,所述方法包括:1)提供第一硅衬底,刻蚀形成硅柱阵列;2)于所述第一硅衬底及硅柱阵列表面形成实现选择性外延生长的阻挡层;3)形成疏水有机分子膜;4)提供第二...
刘东方
曾煌
张伟
王聪
李纪周
陈小源
文献传递
一种双壳层结构籽晶衬底及其制备方法
本发明提供一种应用于单层转移薄膜生长的籽晶衬底及其制备方法,包括步骤:1)采用光刻工艺于单晶硅衬底表面形成光刻胶掩膜;2)于具有光刻胶掩膜的衬底上沉积金属层;3)去除所述光刻胶掩膜;4)采用湿法刻蚀工艺对所述衬底进行选择...
刘东方
鄢靖源
张伟
李纪周
王聪
陈小源
杨辉
文献传递
基于横梯度波荡器的激光加热器
本实用新型提供一种基于横梯度波荡器的激光加热器,其安装于自由电子激光装置和直线加速器中,其包括沿激光光路依次排布且位于水平的第一光轴上的第一反射镜、第一激光靶片、第一束流靶片、横梯度波荡器、第二激光靶片、第二束流靶片和第...
黄大章
冯超
张伟
张开庆
康尹
一种使用磁场相机的混合波荡器磁化块排序方法
2019年
描述了一种考虑了磁化块局部磁矩不一致性的混合型波荡器磁化块初始安装排序方法。该方法基于独特设计的磁场相机,该相机用来扫描测量波荡器磁化块南北极附近的场图。排序优化流程为:由磁场相机所测得磁化块南北极附近场图推算出该磁化块内的局部磁矩误差分布,通过三维模拟计算得出含有局部磁矩误差的磁化块安装在波荡器梁上后对波荡器磁场的影响,最终依据这些影响数据对磁化块进行排序。该方法在一台短周期混合型波荡器样段上进行测试,所得结果表明在优化后的半周期积分场误差离散性明显小于未优化的情况,从而确认该方法是有效的。
钱茂飞
张继东
何永周
王宏飞
张伟
周巧根
Si/GeTe纳米复合多层相变薄膜、相变存储器及其制备方法
本发明提供一种Si/GeTe纳米复合多层相变薄膜、相变存储器及其制备方法,所述Si/GeTe纳米复合多层相变薄膜包括Si薄膜及GeTe薄膜,所述Si薄膜与所述GeTe薄膜交替排列形成多层薄膜结构。通过磁控交替溅射方法将相...
汪昌州
刘东方
张伟
杨康
文献传递
一种基于层转移的晶硅薄膜的制备方法
本发明提供一种基于层转移的晶硅薄膜的制备方法,包括:1)于单晶硅衬底表面形成用于制作周期性棒阵列的掩膜,采用化学湿法刻蚀或干法刻蚀工艺于单晶硅衬底上形成周期性的硅棒阵列;2)于单晶硅衬底表面及硅棒阵列表面形成阻挡层;3)...
刘东方
张伟
陈小源
杨辉
王聪
鲁林峰
李东栋
方小红
李明
杨康
王旭洪
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一种应用于层转移薄膜生长的籽晶阵列的制备方法
本发明提供一种应用于层转移薄膜生长的籽晶阵列的制备方法,包括步骤:1)于具有周期性排列的硅棒的硅衬底表面形成阻挡层;2)于具有阻挡层表面形成硬掩膜;3)于所述硬掩膜表面旋涂PMMA及光刻胶;4)采用刻蚀工艺去除各所述硅棒...
张伟
刘东方
王聪
刘洪超
陈小源
杨辉
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