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张晓娟

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 2篇沟道
  • 2篇二维电子
  • 2篇二维电子气
  • 2篇分子束
  • 2篇分子束外延
  • 2篇MBE生长
  • 1篇电子迁移率
  • 1篇调制掺杂
  • 1篇应变层
  • 1篇砷化合物
  • 1篇生长温度
  • 1篇迁移率
  • 1篇磷化铟
  • 1篇晶体管
  • 1篇化合物
  • 1篇复合沟道
  • 1篇高电子迁移率
  • 1篇高电子迁移率...
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体材料

机构

  • 4篇南京电子器件...

作者

  • 4篇陈建炉
  • 4篇张晓娟
  • 4篇邱凯
  • 2篇谢自力
  • 1篇尹志军

传媒

  • 2篇微纳电子技术
  • 2篇第十二届全国...

年份

  • 2篇2003
  • 2篇2002
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
MBE生长InGaAs/In_(0.32≤x≤0.52)Al_(1-x)As MM-HEMT材料
2003年
在GaAs衬底上利用分子束外延技术生长了不同In组分的MetamorphicHEMT(简称MM-HEMT)。通过对MM-HEMT材料中台阶式缓冲层材料种类、台阶宽度、初始组分以及生长温度等生长参数、生长条件和结构参数进行优化,得到了具有良好电学性能的MM-HEMT材料,其二维电子气迁移率和浓度指标与国外同期水平相当。
邱凯张晓娟陈建炉
关键词:INGAAS生长温度
InP-HEMT中复合沟道的设计与生长
2003年
设计并生长了带有复合沟道的InP基HEMT材料,该材料具有较高的二维电子气浓度和迁移率。在使用In_xGa_(1-x)As/In_(0.53)Ga_(0.47)As复合沟道时,当In组分等于0.7时得到较好的沟道输运性能;在使用InAs复合沟道时,得到了二维电子气浓度为2.3×10^(12)/cm^2、室温迁移率高达13600 cm^2/V·s的性能优良的HEMT材料。
邱凯张晓娟陈建炉
关键词:高电子迁移率晶体管复合沟道
在(311)A GaAs衬底上生长GaAs/GaAlAs P沟道HFET材料
利用分子束外延技术在(311)A衬底上,使用单一的硅源作为掺杂剂,通过控制Ⅴ/Ⅲ比和衬底温度等生长条件生长出不同导电类型的半导体材料,并生长了高性能的P沟道HFET材料.
邱凯谢自力尹志军张晓娟陈建炉
关键词:调制掺杂二维电子气分子束外延
文献传递
MBE生长含应变层InGaAs/GaAs选择掺杂异质二维电子气
利用GEN-Ⅱ型进口分子束外延设备生长InGaAs/AlGaAS/GaAs异质结构材料,并进行了材料结构优化设计和材料特性研究,并用于研制PHEMT器件.
谢自力邱凯陈建炉张晓娟
关键词:半导体材料分子束外延INGAAS/GAAS二维电子气
文献传递
共1页<1>
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