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周帆

作品数:80 被引量:45H指数:4
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 49篇期刊文章
  • 21篇专利
  • 8篇会议论文
  • 2篇科技成果

领域

  • 58篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 29篇激光
  • 29篇激光器
  • 13篇单片
  • 13篇反馈激光器
  • 13篇分布反馈激光...
  • 12篇单片集成
  • 12篇调制
  • 12篇调制器
  • 12篇半导体
  • 11篇电吸收
  • 11篇电吸收调制
  • 10篇电吸收调制器
  • 7篇多量子阱
  • 7篇模斑转换器
  • 7篇波导
  • 6篇增益耦合
  • 6篇光电
  • 6篇MOCVD
  • 5篇芯片
  • 5篇磷化铟

机构

  • 79篇中国科学院
  • 4篇国家光电子工...
  • 2篇长春光机学院
  • 1篇北京邮电大学
  • 1篇云南师范大学
  • 1篇香港中文大学

作者

  • 80篇周帆
  • 74篇王圩
  • 45篇朱洪亮
  • 34篇赵玲娟
  • 24篇王宝军
  • 23篇王鲁峰
  • 22篇边静
  • 16篇潘教青
  • 14篇张静媛
  • 10篇张靖
  • 9篇董杰
  • 9篇谢红云
  • 8篇汪孝杰
  • 8篇马朝华
  • 8篇阚强
  • 7篇田慧良
  • 7篇侯廉平
  • 7篇赵谦
  • 6篇张瑞英
  • 6篇邱伟彬

传媒

  • 34篇Journa...
  • 5篇物理学报
  • 4篇中国激光
  • 2篇第十五届全国...
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇光子学报
  • 1篇高技术通讯
  • 1篇半导体光电
  • 1篇电子科学学刊
  • 1篇第十三届全国...
  • 1篇第十四届全国...
  • 1篇第十五届全国...
  • 1篇全国第十一次...
  • 1篇全国第十一次...
  • 1篇第九届全国电...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 6篇2010
  • 1篇2009
  • 7篇2008
  • 6篇2007
  • 10篇2006
  • 12篇2005
  • 6篇2004
  • 6篇2003
  • 7篇2002
  • 5篇2001
  • 1篇2000
  • 4篇1998
  • 3篇1997
  • 3篇1996
  • 1篇1990
80 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
取样光栅DFB激光器
近年来,取样光栅(SG)结构的宽带可调谐激光器成为研究的热点.这是由于取样光栅制作工艺跟传统全息曝光光栅制作工艺兼容,无需使用昂贵和低效的电子束刻蚀工艺和灵活性差的相位掩模板曝光技术,并且取样光栅结构同样能实现高的边模抑...
阚强赵玲娟周帆王宝军王圩
关键词:可调谐激光器取样光栅
文献传递
借助保护层的取样光栅的制作方法
一种借助保护层的取样光栅的制作方法,包括:在衬底上依次生长缓冲层、下波导层、有源区、上波导层和保护层;在保护层之上,均匀地涂上一层光刻胶,借助于取样光栅光刻版,在光刻胶上曝光出需要制作光栅的区域;将曝光后的结构进行选择性...
王桓阚强周帆王宝君朱洪亮
文献传递
基于n-InP的单片集成的光逻辑门及其制作方法
一种基于n-InP的单片集成的光逻辑门,包括:一基片;一n型稀释波导层制作于基片之上;一下限制层、多量子阱层、上限制层、盖层和接触层依次制作于n型稀释波导层之上,形成电吸收调制器结构;一N型宽禁带层、P型窄禁带吸收层、P...
张云霄廖栽宜周帆赵玲娟王圩
低介电常数BCB树脂的固化方法
一种低介电常数BCB树脂的固化方法,具体步骤如下:步骤1:在半导体芯片表面涂覆一层粘附剂;步骤2:通过旋转方式在半导体芯片表面的粘附剂上涂覆一层液态BCB树脂,接着将涂覆好BCB树脂的半导体芯片放入固化炉中,并通入氮气保...
程远兵周帆潘教青陈娓兮王圩
文献传递
Low-Microwave Loss Coplanar Waveguides Fabricated on High-Resistivity Silicon Substrate被引量:1
2006年
Three kinds of coplanar waveguides (CPWs) are designed and fabricated on different silicon substrates---common low-resistivity silicon substrate (LRS), LRS with a 3μm-thick silicon oxide interlayer, and high-resistivity silicon (HRS) substrate. The results show that the microwave loss of a CPW on LRS is too high to be used, but it can be greatly reduced by adding a thick interlayer of silicon oxide between the CPW transmission lines and the LRS.A CPW directly on HRS shows a loss lower than 2dB/cm in the range of 0-26GHz and the process is simple,so HRS is a more suitable CPW substrate.
杨华朱洪亮谢红云赵玲娟周帆王圩
激光器-电吸收调制器-模斑转换器单片集成的制作方法
一种激光器-电吸收调制器-模斑转换器的制作方法,包括:在衬底上依次外延生长缓冲层、下波导层、空间层、本征层;用PECVD技术在本征层上生长二氧化硅;去掉本征层,第二次生长有源区及本征层,同时刻出模斑转换器的上波导结构;刻...
侯廉平王圩朱洪亮周帆王鲁峰边静
文献传递
An Integratable Distributed Bragg Reflector Laser by Low-Energy Ion Implantation Induced Quantum Well Intermixing
2004年
An integratable distributed Bragg reflector laser is fabricated by low energy ion implantation induced quantum well intermixing.A 4 6nm quasi continuous wavelength tuning range is achieved by controlling phase current and grating current simultaneously,and side mode suppression ratio maintains over 30dB throughout the tuning range except a few mode jump points.
张靖陆羽赵玲娟周帆王宝军王鲁峰王圩
Wide-Band Polarization-Independent Semiconductor Optical Amplifier Gate with Tensile-Strained Quasi-Bulk InGaAs
2004年
A semiconductor optical amplifier gate based on tensile strained quasi bulk InGaAs is developed.At injection current of 80mA,a 3dB optical bandwidth of more than 85nm is achieved due to dominant band filling effect.Moreover,the most important is that very low polarization dependence of gain (<0 7dB),fiber to fiber lossless operation current (70~90mA) and a high extinction ratio (>50dB) are simultaneously obtained over this wide 3dB optical bandwidth (1520~1609nm) which nearly covers the spectral region of the whole C band (1525~1565nm) and the whole L band (1570~1610nm).The gating time is also improved by decreasing carrier lifetime.The wide band polarization insensitive SOA gate is promising for use in future dense wavelength division multiplexing (DWDM) communication systems.
王书荣刘志宏王圩朱洪亮张瑞英丁颖赵玲娟周帆王鲁峰
渐变掩蔽图形超低压选择区域生长法制备高质量InGaAsP多量子阱材料
2006年
采用超低压(22mbar)选择区域生长(Selective Area Growth,SAG)金属有机化学汽相沉积(Metal-organic ChemicalVapor Deposition,MOCVD)技术成功制备了高质量InGaAsP/InGaAsP多量子阱(Multiple Quantum Well,MQW)材料.在较小的掩蔽宽度变化范围内(15—30μm),得到了46nm的光荧光(Photoluminescence,PL)波长偏移量,PL半高宽(Full-Width-at-Half-Maximum,FWHM)小于30meV.为了保证选择区域内的MQWs材料的均匀性,我们采用了新型的渐变掩蔽图形,并且运用这种新型渐变掩蔽图形,研究了渐变区域的过渡效应对材料生长的影响.我们还观察到,渐变区域的能量偏调量随着掩蔽图形宽度与渐变区域长度比值的增大而出现饱和现象.
赵谦潘教青张靖周帆王宝军王鲁峰边静安欣赵玲娟王圩
关键词:超低压
MOCVD生长大功率单量子阱激光器被引量:3
1996年
本文介绍了MOCVD生长的高质量GaAs和AlAs材料以及(Al)GaAs/AlGaAs分别限制单量于阱激光器.GaAs材料的77K迁移率为122,700cm2/(V·s),GaAs/AlAs具有均匀陡变的界面.激光器的最大光输出功率为4W,平均光功率密度达4MW/cm2,斜率效率为1.2W/A,在1W恒功老化4000小时电流增加小于10%,预计寿命可超过两万小时.
郑联喜肖智博韩勤金才政周帆马朝华胡雄伟
关键词:单量子阱激光器激光器MOCVD
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