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文献类型

  • 2篇科技成果
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇硅片
  • 2篇掺砷
  • 1篇晶体
  • 1篇硅材料
  • 1篇硅晶
  • 1篇硅晶体
  • 1篇标准物质

机构

  • 3篇上海市计量测...

作者

  • 3篇宗龙章
  • 2篇吴晓虹
  • 2篇邹子英
  • 2篇闵靖
  • 1篇周全德
  • 1篇朱丽娜

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2003
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
研制国产硅晶体间隙氧含量标准物质
朱丽娜周全德宗龙章
该项目主要研制的是用于傅立叶红外光谱仪测试的硅晶体间隙氧含量标准物质。该项目研制的氧含量标准物质,是按照美国NIST氧含量标准制备要求和标准测试方法ASTM F1188-93a,结合我国国家测试标准国标标准GB1557-...
关键词:
关键词:硅晶体标准物质
重掺砷硅片的质量监控及其应用
邹子英闵靖郭瑾吴晓虹谢江华宗龙章叶祖超
该项目主要研究重掺砷硅片的缺陷显示方法、重掺砷硅片背面机械损伤、重掺砷硅片的外延以及背封对外延自掺杂的抑制及重掺砷硅片中杂质对外延及器件的影响。该项目研究开发了Cu-Na择优腐蚀液和缺陷显示技术,此技术能清晰的、灵敏的、...
关键词:
关键词:硅材料
重掺砷硅片的质量监控及其应用
<正>本成果主要研究内容为:研究重掺砷硅片的缺陷显示方法;重掺砷硅片背面机械损伤;重掺砷硅片的外延以及背封对外延自掺杂的抑制;重掺砷硅片中杂质对外延及器件的影响。研究开发的择优腐蚀液和缺陷显示技术获发明专利号031 15...
邹子英闵靖郭瑾吴晓虹谢江华宗龙章叶祖超
文献传递
共1页<1>
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