2024年12月1日
星期日
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
卢维美
作品数:
9
被引量:10
H指数:1
供职机构:
中国科学院电工研究所
更多>>
相关领域:
电子电信
机械工程
更多>>
合作作者
薛虹
中国科学院电工研究所
唐晖
中国科学院电工研究所
安秉谦
中国科学院电工研究所
顾文琪
中国科学院电工研究所
王理明
中国科学院电工研究所
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
7篇
期刊文章
1篇
会议论文
1篇
科技成果
领域
7篇
电子电信
2篇
机械工程
主题
5篇
电子束曝光
4篇
曝光机
3篇
电子束曝光机
2篇
电子束
2篇
激光
2篇
IC
1篇
带宽
1篇
电路
1篇
电子束曝光技...
1篇
双频
1篇
伺服
1篇
伺服轴
1篇
图形生成系统
1篇
偏转放大器
1篇
微电子
1篇
微电子技术
1篇
微米
1篇
微细
1篇
微细加工
1篇
微细加工技术
机构
9篇
中国科学院
作者
9篇
卢维美
2篇
唐晖
2篇
薛虹
1篇
张今朝
1篇
潭敏
1篇
王启祥
1篇
陈志琪
1篇
王岩红
1篇
张福安
1篇
王理明
1篇
顾文琪
1篇
安秉谦
传媒
4篇
电子工业专用...
2篇
电工电能新技...
1篇
微细加工技术
1篇
第二届全国电...
年份
1篇
2000
2篇
1999
1篇
1998
2篇
1996
1篇
1991
1篇
1990
1篇
1989
共
9
条 记 录,以下是 1-9
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
集成光栅器件与微细加工技术
1989年
集成光栅器件是光集成电路(OIC)和光电子集成电路(OEIC)中的重要功能器件,真有波导材料中光波长量级的微细周期结构,其制作技术要求极为苛刻,本文侧重介绍在集成光栅器件制备中的全息光刻、电子束和离子束等微细加工技术。
卢维美
关键词:
微细加工技术
EeBES—40型电子束曝光机的图形生成系统
1996年
介绍了美国瓦里安公司1979年研制的一种生产型电子束曝光机的光栅扫描方式,以及光栅扫描作图的图形生成系统和该系统的主要组成部件。
卢维美
关键词:
电子束曝光机
光栅扫描
带宽
位图
激光定位工件台长度测量的有理化电路
1991年
在激光干涉测量的数据处理中,常用迭代法对测量数据进行有理化(指小数有理化),本文讨论迭代参数的设计,并介绍一种用于电子束曝光机双频激光定位工件台中长度测量的有理化电路。
卢维美
关键词:
电路
工作台
双频激光测量系统及其在IC加工设备中的应用
1990年
本文介绍美国HP公司生产的双频激光测量系统以及在IC加工设备中的应用,并对采用该测量系统时应注意的问题进行讨论。
卢维美
关键词:
激光
测量系统
IC
双频
0.1微米电子束曝光实验装置的研制
顾文琪
张福安
王理明
薛虹
潭敏
唐晖
陈志琪
安秉谦
张今朝
王启祥
卢维美
王岩红
“0.1微米电子束曝光及实验装置的研制”是中国科学院“九五”应用研究与发展重大项目。该装置也是我国第一台自行研制的0.1微米电子束曝光机。微电子光刻设备是制造大规模集成电路的先导和基础。在众多的微电子设备中,以电子束...
关键词:
关键词:
电子束
曝光机
光刻技术
高精度激光干涉仪定位系统
被引量:1
1999年
HP公司推出的新产品5527A型双频激光干涉仪精密测量系统,采用数字控制HP-10936A伺服轴板为核心组成的闭环位置控制线路,取得了亚微米级的定位精度和重复精度。重点介绍HP-10936A伺服轴板的功能,推导出具有前馈补偿PID控制器的传递函数表达式,分析PID根轨迹图上零点的位置对伺服系统稳定性的影响,介绍控制器的调试方法,以及采用HP-3562A动态信号分析仪,可实现伺服轴板的快速调试,给出闭环位置控制系统的控制程序。
卢维美
关键词:
激光干涉测量
激光干涉仪
Ee—BES—40A电子束曝光机的无油超高真空系统的故障诊断技术
1996年
本Be-BES-40A电子束曝光机是电工所引进美国Varian公司的二手设备。本文主要介绍该机的无油超高真空系统的故障诊断技术,及其排除方法。其中,应用了“压强上升率法”,以及氦质谱检漏仪的新型检漏技术──“逆扩散”技术,最终达到了所要求的超高真空。同时,找到了一套适用于无油真空系统的故障诊断方法。
晁阳
左云芝
卢维美
关键词:
电子束曝光
故障诊断
电子束纳米加工技术研究现状
被引量:9
1998年
纳米科学技术是80年代后期发展起来面向21世纪的高新技术,纳米加工技术是制造量子微结构的主导技术。电子束纳米加工推动着微细加工技术的研究向着分子、原子量级的纳米层次发展。本文重点介绍电子束纳米曝光技术的研究现状及发展前景。
卢维美
关键词:
电子束曝光技术
微电子技术
IC
高性能偏转放大器的研制
介绍0.1微米矢量扫描圆形电子束曝光机的高性能磁偏转放大器的设计思想和技术措施,在保证扫描系统优良的输出线性前提下,取得高达2MHz的扫描频率。
唐晖
卢维美
薛虹
关键词:
电子束曝光机
偏转放大器
文献传递
网络资源链接
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张