顾文琪
- 作品数：99 被引量：76H指数：4
- 供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程重要方向项目国家重点基础研究发展计划“九五”国家科技攻关计划更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术一般工业技术电气工程更多>>
- 一种新型的电子束投影成像曝光技术
- 具有角度限制的电子束缩小投影曝光技术可能是21世纪纳米光刻最有前途的光刻技术之一.我们利用透射电镜(TEM)将它的放大投影镜改为缩小投影镜、改造样品台、增加基片工件台,通过实验可曝出最细线宽78纳米的线条.同时对掩模、对...
- 顾文琪张福安
- 关键词：纳米电子束微电子技术光刻掩模
- 文献传递
- PIC单片机在干式变压器智能型温控器中的应用
- 2004年
- 文章简要介绍了在单片机世界里日益成为主流产品的PIC单片机,并把它应用到干式变压器 智能型温控器的实际设计应用中,给出了系统硬件、软件、及电磁兼容性的设计方法。实践证明该系 统性能稳定,抗干扰能力强,测量精度高,具有较高的实用价值。
- 马向国顾文琪胡泳芬
- 关键词：干式变压器温控器智能型PIC单片机系统硬件系统性能
- 高能电子束纳米曝光系统的研制
- 田丰韩立顾文琪
- 文献传递
- 纳米聚焦离子束系统液态金属离子源的研制
- 2005年
- 叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备.发射尖的腐蚀采用自主开发的一套发射尖腐蚀设备腐蚀而成,该设备保证了源尖腐蚀工艺的可靠性和可重复性,腐蚀后的发射尖曲率半径在0.5～5μm之间.液态金属储备槽采用同轴针形结构,槽的材料采用高温下不易与金属镓发生反应的金属钼,这种源结构的优点是可以调节发射尖伸出合金槽的长度,储备的液态金属多,减少了液态金属蒸发对系统造成的污染,源发射尖到达寿命后结构仍可使用,该源具有良好的发射特性(达到100μA)、长寿命(1000h以上)和稳定度.该源与纳米聚焦离子束系统结合,将为纳米离子束加工带来新的发展前景,从而为研究其他单质源或合金源提供经验.
- 马向国顾文琪
- 关键词：聚焦离子束液态金属离子源
- 聚焦离子束技术及其在微纳加工技术中的应用被引量：2
- 2007年
- 聚焦离子束(FIB)技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。它突破了只能对表层成像和分析的局限,可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以对样品材料进行切割研磨和沉积特定材料,用它可以获得以前无法得到的样品信息。从而为研究人员和制造人员提供了一种对多种样品在纳米尺度进行修改、制作和分析的有效工具。
- 马向国刘同娟顾文琪
- 关键词：聚焦离子束液态金属离子源
- 一种光学激发产生自旋极化电子和自旋电流的方法
- 一种利用光学激发产生自旋极化电子和自旋电流的方法，利用光学全反射在界面上所产生的倏逝波与位于该界面上产生自旋极化电子和自旋电流的功能层所包含的由表面等离激元金属材料构成的具有纳米特征尺寸的结构发生相互作用，激发表面等离激...
- 闫存极韩立顾文琪
- 文献传递
- 纳米级别图形的压印制造方法及其装置
- 一种纳米级别图形的压印制造方法，其特征在于利用吸盘吸附的方式提高了模版和待压印物的硬度，同时利用吸盘的预压使压印时压力分布均匀。在装卡模版和待压印物时，可利用光学传感器对模版和待压印物进行对准。应用本发明方法的装置包括保...
- 董晓文顾文琪司卫华
- 文献传递
- 电子束曝光技术的发展方向
- 电子束曝光技术是微电子、光电子和微机械研究和器件生 产的关键技术.电子束曝光是掩模制作的主要手段.电子束直写(EBDW)系统可达分辨率5nm,成为纳米器件、纳米结构研究的关键设备.EBDW还用于制作三维微结构、全息图形、...
- 顾文琪
- 关键词：电子束分辨率
- 文献传递
- 透射电子显微镜改造为电子束曝光系统
- 电子束曝光机是半导体工业中的一个重要设备,为了充分研究加速电压对于电子束曝光的影响,高压透射电子显微镜被改造成电子束曝光系统.改造后的系统将用于研究加速电压和光刻胶曝光特征之间的关系.由于高压透射电子显微镜的设计和曝光系...
- 韩立田丰安秉谦顾文琪
- 关键词：电子束曝光电子显微镜
- 文献传递
- 聚焦离子束装置中的图形发生器
- 2007年
- 聚焦离子束技术(FIB)是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。几十年来,随着关键技术的不断突破和完善,达到了前所未有的发展,所突破的关键技术之一就是图形发生器的使用。
- 马向国刘同娟顾文琪
- 关键词：聚焦离子束图形发生器微纳加工
