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郭世海

作品数：26 被引量：17H指数：2
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 20篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇科技成果

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 10篇激光
  • 10篇激光器
  • 10篇光学
  • 9篇镀膜
  • 7篇计算机控制
  • 5篇电源
  • 5篇电子枪
  • 5篇信号
  • 5篇信号接收
  • 5篇信号接收系统
  • 5篇锁相放大
  • 5篇锁相放大器
  • 5篇光电
  • 5篇高功率
  • 4篇自动控制
  • 4篇计算机
  • 4篇计算机组成
  • 4篇横流二氧化碳...
  • 4篇二氧化碳激光...
  • 3篇灯丝

机构

  • 26篇中国科学院上...

作者

  • 26篇郭世海
  • 18篇易葵
  • 11篇朱美萍
  • 11篇邵建达
  • 9篇范正修
  • 8篇归振兴
  • 8篇沈俊泉
  • 7篇奚全新
  • 5篇沈华勤
  • 5篇贺洪波
  • 5篇陆培华
  • 4篇高惠学
  • 4篇沈国健
  • 4篇李庆培
  • 4篇张顺怡
  • 4篇黄美英
  • 4篇申雁鸣
  • 3篇柳月英
  • 3篇范瑞瑛
  • 3篇齐红基

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇TFC’05...

年份

  • 2篇2010
  • 1篇2009
  • 4篇2008
  • 4篇2007
  • 4篇2006
  • 3篇2005
  • 2篇2003
  • 1篇2002
  • 3篇2000
  • 2篇1999
共 26 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
千瓦级横流二氧化碳激光器
一种千瓦级横流二氧化碳激光器,用于激光加工和热处理。激光器的整机呈一体化的箱体。箱体的上箱体中置有一体化的放电室、热交换器、风机系统、进出口导流器以及光学谐振腔,箱体的下箱体中置有激光电源、充放气系统、真空泵、镇流电阻箱...
沈俊泉陆培华归振兴奚全新沈华勤高惠学郭世海
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光学膜厚监控系统
一种实时监控镀膜过程中薄膜厚度的光学膜厚监控系统，特征在于其结构包括光源发射系统、监控片、信号接收系统和锁相放大器四部分：所述的光源发射系统由带光电池的光源和沿该光源发出的光束的前进方向依次设置的聚光镜、光阑、单排孔调制...
朱美萍易葵郭世海邵建达王丹申雁鸣傅小勇毕军
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用于高功率激光器的调压直流发生装置
一种用于高功率激光器的调压直流发生装置,主要在一外壳内固定有置于互感器与升压主变压器之间的带有模拟开关的模块,模拟开关分别与控制单元和触发器相连。升压主变压器是单只Y/Y型结构的变压器。控制单元是手动控制结构,或者是电动...
郭世海解永谟归振兴奚全新沈俊泉李庆培柳月英陈龙张永红沈国健张顺怡黄美英
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基于计算机的电子束蒸发速率自动控制设备
一种用于光学镀膜机的基于计算机的电子束蒸发速率自动控制设备，该设备包括蒸发速率探测部分、电子枪灯丝电压调节部分、开关量输入输出部分以及一台程序控制的计算机。该程序控制的计算机从速率探测器获得即时蒸发速率，据此得一控制信号...
王善成易葵郭世海
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计算机控制的电子束偏转设备
一种用于光学镀膜的电子束蒸发系统的计算机控制的电子束偏转设备，包括一具有X方向偏转线圈和Y方向偏转线圈组成的偏转线圈组，其特点是还有一台程序控制计算机和一台由数字电位器构成的偏转调节装置，所述的数字电位器接受所述的程序控...
周婧郭世海易葵
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电子束蒸发速率自动控制设备及其控制方法
一种用于光学镀膜机的电子束蒸发速率自动控制设备及其控制方法，该设备包括蒸发速率探测部分、电子枪灯丝电压调节部分、开关量输入输出部分以及一台程序控制的计算机。该程序控制的计算机从速率探测器获得即时蒸发速率，据此得一控制信号...
王善成易葵郭世海
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计算机控制镀膜机的电子束偏转装置及控制方法
一种计算机控制镀膜机电子束偏转的装置及控制方法，所述的计算机控制镀膜机的电子束偏转的装置，由扫描控制仪、手动遥控器、数据采集卡和计算机组成。本发明对电子束偏转的控制精度高、可靠性高，对于不同的电子枪设备具有普遍适应性。每...
王宁易葵郭世海
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计算机控制镀膜装置
一种计算机控制镀膜装置，包括由光源发射系统、监控片、信号接收系统和锁相放大器四部分组成的光学膜厚监控系统，其特征在于还有带有控制程序的计算机、晶控仪、挡板开关控制电路；所述的控制程序部分包括参数设定模块和数据处理模块。本...
朱美萍易葵郭世海贺洪波邵建达范瑞瑛范正修齐红基
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膜厚监控误差及监控片不均匀对膜厚监控的影响被引量：7
2006年
借助于VC++编程从理论上模拟分析了膜厚监控误差以及监控片不均匀性对光学膜厚监控的影响。结果表明,膜厚监控误差和监控片的不均匀性都对监控曲线有影响;随着膜层层数的增加,监控片不均匀性逐渐增大。实验制备了多层规整薄膜并对其监控曲线进行了分析,分析表明考虑到膜厚监控误差和监控片不均匀性后计算的光学监控曲线和镀膜过程实测光学监控曲线吻合较好。这说明膜厚监控误差和监控片不均匀性是引起监控曲线与理论值偏离的重要因素。介绍了如何计算考虑膜厚监控误差和监控片不均匀性后的理论监控曲线。这将对膜厚自动监控,尤其是对非规整膜系的自动监控具有重要的指导意义。
朱美萍易葵郭世海范正修邵建达
关键词：薄膜光学膜厚监控误差分析不均匀性
高精度薄膜应力实时测量装置
本实用新型提供一种高精度薄膜应力实时测量装置，该装置由He－Ne激光器、反射镜、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机组成。整个装置可以方便地安装在任一镀膜机上，He－Ne激光器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算...
申雁鸣朱美萍郭世海夏志林邵建达贺洪波易葵范正修邵淑英
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