范正修
- 作品数：503 被引量：1,581H指数：18
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划上海市教育委员会重点学科基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- Q开关Nd:YAG脉冲激光对红外滤光片的损伤效应被引量：6
- 2002年
- 介绍了由滤光片膜层结构决定的激光在光学薄膜中形成温度场及驻波场特性。用 1.0 6 μm调Q Nd :YAG激光器 ,在激光脉冲宽度 10ns和光斑直径 0 .6 1μm的条件下 ,进行了激光辐照红外滤光片的损伤特性实验研究。根据脉冲激光辐照红外滤光片后样品损伤分析 ,发现滤光片的最初损伤发生在里面的膜层中 ,从而在实验上验证了计算得到的滤光片膜层中存在其温度场及驻波场的结果。
- 袁永华刘颂豪孙承纬罗福范正修廖常俊胡海洋
- 关键词：激光辐照效应光学薄膜温度场驻波场激光损伤
- 双离子束溅射沉积薄膜的光学特性与激光损伤研究被引量：13
- 1995年
- 对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响，制备了折射率接近于块材料的ＴｉＯ２和ＺｒＯ２薄膜，显著降低了ＴｉＯ２、ＺｒＯ２和ＳｉＯ２薄膜的光吸收损耗，ＴｉＯ２和ＺｒＯ２薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离子束溅射沉积１．０６μｍ多层高反膜，得到了大于９９．５％的高反射率，经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜相比有所提高。
- 汤雪飞范正修王之江
- 关键词：离子束溅射光学特性激光损伤
- 斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率分析被引量：3
- 2006年
- 斜角入射沉积法是一种制备薄膜的新颖方法,它可以用来制备渐变折射率薄膜.本文首先探讨了膜料的沉积入射角为α,薄膜柱状生长倾斜角为β时的薄膜的填充系数;之后利用drude理论,分析研究了斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率与薄膜的入射角和生长方向的关系.
- 沈自才孔伟金刘世杰沈建邵建达范正修
- 关键词：渐变折射率
- ZrO_2薄膜残余应力实验研究被引量：32
- 2004年
- 采用ZYGOMarkⅢ GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2 薄膜中的残余应力进行了研究 ,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2 薄膜残余应力的影响。实验结果表明 :随着沉积温度及沉积速率的升高 ,ZrO2 薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力 ,且压应力值随着沉积温度升高而增大。同时用X射线衍射技术测量分析了不同沉积条件下ZrO2 薄膜的微结构组织 ,探讨了ZrO2
- 邵淑英范正修范瑞瑛邵建达
- 关键词：薄膜物理沉积温度沉积速率电子束蒸发法X射线衍射技术
- 高温金属舟及其镀制掺锡氧化铟透明导电膜的方法
- 徐学科范正修汤兆胜邵建达
- 该项目采用经900-1200℃高温退火处理后的钽片制作的，为长方舟，其尺寸和结构的比例关系为：蒸发舟的总长度，包括两翅片为（88±3mm），舟槽的长、深、宽分别为45±2mm，10±3mm，24±3mm，利用该蒸发舟镀制...
- 关键词：
- 关键词：真空镀膜高温退火
- 光学薄膜吸收损耗的研究被引量：2
- 1989年
- 用横向光热偏转技术研究光学薄膜的吸收损耗.结果表明:对ZrO_2、MgF_2、ZnS等单层膜,薄膜-基底界面吸收、空气-薄膜界面吸收以及薄膜体内吸收三者处于同一量级,而对TiO_2、Ta_2O_5、SiO_2等样品,薄膜-基底界面吸收远大于空气-薄膜界面吸收及薄膜体内吸收,是吸收损耗的主要来源.
- 吴周令范正修唐晋发
- 关键词：吸收损耗光学薄膜
- 在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO_3薄膜以及Pb损失的抑制被引量：1
- 2000年
- 利用射频磁控溅射系统，采用 Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以 Ｏ２为反应气体，在（ １１１） Ｓｉ基板上直接沉积 ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试、分析得出：在５３５℃时沉积、溅射后直接充入 １０７Ｐａ的氧气并且以 ３℃／ｍｉｎ的速率降至室温，制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的ＰｂＴｉＯ３薄膜。并对薄膜的形成机理进行了探讨。
- 赵强汤兆胜冯士猛范正修
- 关键词：PBTIO3铁电薄膜冷却速率
- 显示器件的防护屏及其制备方法
- 本发明是一种用于显示器件屏幕前的显示器件的防护屏及其制备方法，它是在一对可见光透明的基底上采用沉积薄膜的方法，层层重叠地沉积导电吸收层和匹配层的薄膜，膜层数N≥2。本发明的防护屏可以防静电，防强光，防紫外，防眩光，对紫外...
- 王明利范正修
- 文献传递
- 制备工艺条件对薄膜微结构的影响被引量：13
- 2006年
- 用不同的方法在石英玻璃,YAG晶体,K9玻璃和LiNbO3晶体等几种衬底上制备了ZrO2,HfO2和TiO2薄膜。HfO2薄膜利用电子束蒸发(EB)、离子束辅助(IAD)和双束离子束溅射(DIBS)三种方法沉积。对其中的一些样品进行了不同温度下的退火处理,对所有的样品进行X射线衍射(XRD)测试,以获得不同条件下得到的薄膜的晶相及晶粒尺寸等的微结构参数。实验结果表明,薄膜的晶相结构以及晶粒尺寸强烈地依赖于沉积过程的各种技术参数,如衬底的种类、沉积温度、沉积方法和退火温度。利用薄膜表面扩散以及薄膜成核长大热力学原理解释了不同技术条件下的晶相结构和晶粒尺寸不同的原因。
- 田光磊申雁鸣沈健邵建达范正修
- 关键词：X射线衍射晶相结构迁移率扩散激活能
- 非均匀性对单层膜光学特性的影响被引量：7
- 2005年
- 探讨了不同规律的非均匀性对单层膜的光谱特性的影响,与均匀单层膜对比发现折射率正变引起透射率的极大值减小,折射率负变引起透射率的极大值变大,当非均匀性很小时,透射率的极小值基本不变.对实验制备的单层膜从实验和理论上进行了对比并给出了较好的拟合,发现在薄膜和基底的界面处存在一过渡层,过渡层可近似为线性,并从理论上给予了分析解释.
- 沈自才宋永香王英剑范正修邵建达
- 关键词：非均匀性光谱特性
