刘伟
- 作品数：17 被引量：69H指数：6
- 供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
- 发文基金：国防民口配套项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信金属学及工艺理学更多>>
- 镍钛形状记忆合金丝材加工工艺及其影响因素被引量：16
- 2008年
- 综述了TiNi形状记忆合金医用丝材加工工艺,包括热加工、冷加工和热处理工艺,对影响产品质量的因素进行评价。TiNi合金由于具有优良的超弹性、形状记忆性能、耐蚀性和生物相容性,而被广泛用于医疗器械领域,如牙弓丝、血管内支架等。
- 袁志山王江波李崇剑刘伟缪卫东吕保国
- 关键词：形状记忆合金钛镍合金超弹性血管内支架
- 靶材用AlSil合金铸锭反偏析的研究
- 高纯铝及其合金溅射靶材是集成电路和平面显示领域布线的常用原料,铝连线工艺有其技术成熟、工艺稳定、价格相对低廉的优势。在纯铝中加入合金元素,可以改善溅射薄膜的一些不良性能,如应力迁移和电迁移,但合金元素的加入给铸锭成分均匀...
- 刘伟
- 关键词：靶材ANSYS
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- ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究被引量：2
- 2009年
- 用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8-12μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%,峰值透过率大于83.5%。在CVDZnS上镀制HfON保护膜后,其8-12μm波段透过率没有明显的降低,同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa,远大于衬底CVDZnS的硬度。胶带实验和泡水试验表明,制备的保护膜和增透膜均和衬底有很好的附着力。
- 刘伟张树玉闫兰琴袁果刘嘉禾黎建明杨海苏小平余怀之
- 关键词：增透膜
- 几种含铌低弹性模量钛合金组织与性能研究被引量：6
- 2004年
- 通过对含Nb钛合金进行成分优选 ,设计出 4种具有较低弹性模量的新型Ti Nb X系钛合金 ,并对 4种新型钛合金的组织与性能进行了研究。研究结果表明 ,4种新成分钛合金的弹性模量均低于 80GPa ,符合设计要求。4种合金的组织均匀 ,组织类型为等轴组织。个别晶粒中存在一定的孪晶与合金加工变形过程有关。此类合金在医学外科植入物、眼镜架用材、运动器材等领域有推广价值。
- 于洋刘伟
- 关键词：钛合金弹性模量机械性能
- 偏铌酸铅的制备及介电性能研究被引量：1
- 2006年
- 以分析纯PbO和Nb2O5为原料,采用两种不同的烧成工艺(自然冷却和快速冷却)制备了偏铌酸铅,并对其物相、孔隙率和介电性能进行了研究。结果表明:自然冷却可得到菱方相的偏铌酸铅,而快速冷却得到的是主晶相为斜方相的偏铌酸铅;自然冷却时的优化烧成温度是1240℃,此时得到的菱方偏铌酸铅的孔隙率最小(14.03%),相对介电常数值最大(71.97);快冷获得的斜方偏铌酸铅的相对介电常数值(均值为216)大约是菱方偏铌酸铅(均值为63)的3.4倍。
- 刘伟毛昌辉杜军
- 关键词：钨青铜结构相对介电常数
- 硫化锌衬底上氧化铪保护膜制备及性能研究被引量：6
- 2007年
- 采用磁控溅射法在硫化锌衬底上制备了氧化铪薄膜,并对氧化铪薄膜的结构和性能进行了分析和测试.结果表明,制备的氧化铪薄膜结构为单斜相,膜层致密,在8～12 μm波段对硫化锌衬底的透过率没有明显影响,硬度显著高于衬底的硬度,且与衬底结合良好,适合用作硫化锌的红外保护膜.
- 刘伟苏小平张树玉王宏斌郝鹏
- 关键词：硫化锌保护膜射频磁控溅射
- 氧分压对掺钼氧化铟透明导电薄膜光电性能的影响被引量：4
- 2011年
- 采用射频磁控反应溅射法在k9玻璃衬底上制备了In2O3:Mo(IMO)透明导电薄膜,分析了不同氧分压条件下IMO薄膜的晶体结构、化学成分及光电性能。结果表明:不同氧分压下制备的IMO薄膜具有不同晶粒的取向性;随着氧分压的增加,薄膜的载流子浓度、载流子迁移率先增加后减小;薄膜的电阻率呈现先增加再减少然后再增加的趋势。在可见及近红外区,有氧气氛下制备的IMO薄膜的平均透过率大于80%以上,并随氧分压的升高而增大。
- 袁果黎建明张树玉刘伟闫兰琴
- 关键词：氧分压电学性能光学性能
- 无损检测在溅射靶材制造中的应用被引量：1
- 2012年
- 作为关键原材料之一,电子信息产业对溅射靶材质量要求非常严格。无损检测对于确保溅射靶材质量具有重要意义。溅射靶材生产过程中应用的无损检测技术主要是X射线技术和超声波技术。无损检测工序的安排需要合理并兼顾生产效率。检测项目主要是原材料与靶材板坯内部缺陷检验和焊接质量检验。应用的超声检测技术主要是超声纵波脉冲反射C扫描技术,而且靶材制造的检验验收标准极为严格。
- 刘红宾刘伟陈明尚再艳高岩何金江王欣平吕保国江轩
- 关键词：电子信息溅射靶材无损检测超声波检验
- ZnSe基底7～14μm波段宽带增透膜被引量：4
- 2009年
- 简要叙述了7～14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究。介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程。给出了用该方法制备的7—14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线，其峰值透过率高达98％以上，在设计波段范围内平均透过率大于97％，膜层附着性能好，光机性能稳定。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。
- 闫兰琴张树玉黎建明杨海苏小平余怀之刘嘉禾刘伟
- ZnS上金刚石膜的过渡层设计和附着力研究被引量：6
- 2008年
- CVD ZnS是中长波前视红外窗口和整流罩的合适材料,文中从折射率、热应力、透射波段和附着力等方面考虑,由实验设计出HfO2/非晶膜双层结构作为ZnS与金刚石保护膜间的过渡层,采用射频反应磁控溅射技术在ZnS表面制备过渡膜层,并采用划痕法研究了薄膜的显微结构对其与衬底间附着力的影响。结果表明,金刚石能够在HfO2/非晶膜过渡层上形核、生长,得到优质的保护膜,同时过渡层也缓解了金刚石膜与ZnS衬底间由于热膨胀系数的较大差异而引起的膜层脱落问题,单面沉积过渡层的ZnS在2～12μm范围具有增透膜的作用。与AlN/非晶膜组成的过渡层相比,HfO2/非晶膜组成的过渡层具有更小的残余应力。在典型实验条件下,该过渡层与ZnS衬底附着性良好,研究发现薄膜的显微结构对附着力的大小有重要影响,形成细小致密的柱状纤维结构,有利于提高附着力。
- 郝鹏张树玉黎建明杨海苏小平余怀之刘伟贺琪
- 关键词：过渡层ZNS金刚石膜附着力
