王振伟
- 作品数：10 被引量：5H指数：1
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- 相关领域：一般工业技术理学航空宇航科学技术更多>>
- 非平衡反应磁控溅射迟滞效应的PID神经网络控制仿真研究
- 反应磁控溅射制备AlN薄膜时,强非线性迟滞效应会造成溅射系统不稳定,并影响薄膜的沉积速率和性能。迟滞效应表现为沉积速率、反应气体气压、靶电压随着反应气体流量的改变而突变。为了保证反应溅射稳定以及保持高溅射速率和高反应气体...
- 王振伟
- 关键词：反应磁控溅射PID神经网络AIN薄膜沉积速率
- 文献传递
- 岩质边坡开挖扰动作用下的微震监测预警分析系统及方法
- 本发明公开了一种岩质边坡开挖扰动作用下的微震监测预警分析系统及方法，该系统包括设置在边坡内部的信号接收单元、信号采集单元、信号存储和处理单元、分析和预警单元；信号接收单元用于接收开挖扰动作用下岩质边坡的微震信号，并发送给...
- 马克庄端阳唐春安李全生王振伟
- 文献传递
- 中频脉冲磁控溅射沉积氮化铝薄膜及性能研究被引量：3
- 2009年
- 氮化铝薄膜在力学、光学、声学等领域有着广泛的应用前景.研究沉积条件对氮化铝薄膜的结构、性能的影响具有重要意义.采用纯铝溅射靶、在不同的N2流量比率条件下,采用中频脉冲磁控溅射在Si(001)衬底上制备出氮化铝薄膜.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪研究了N2流量比率对氮化铝薄膜的微观结构、表面形貌、厚度和折射率的影响.研究结果表明,氮化铝薄膜的微观结构、表面形貌、厚度和折射率与N2流量比率有明显的关系,当固定其它沉积条件时,改变N2流量比率会改变薄膜的沉积速率,当沉积速率发生突变时,薄膜的折射率、微观结构、表面形貌也发生相应的变化.在实验结果的基础上结合反应沉积的表面动力学因素分析了反应气体中N2流量比率对氮化铝薄膜的表面形貌、微观结构、厚度和折射率的影响原因.
- 牟宗信刘升光王振伟公发权贾莉牟晓东
- 关键词：氮化铝形貌折射率磁控溅射
- 中频脉冲磁控溅射沉积氮化铝薄膜及性能研究
- 氮化铝薄膜在力学、光学、声学等领域有着广泛的应用前景.研究沉积条件对氮化铝薄膜的结构、性能的影响具有重要意义. 采用纯铝溅射靶、在不同的N2流量比率条件下,采用中频脉冲磁控溅射在Si(001)衬底上制备出氮化铝薄膜.利用...
- 牟宗信刘升光王振伟公发权贾莉牟晓东
- 关键词：氮化铝薄膜磁控溅射微观结构表面形貌折射率
- 文献传递
- 中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌
- 2007年
- 在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.
- 牟宗信王振伟刘升光赵华玉
- 关键词：磁控溅射氮化铝
- 氧化铝薄膜的中频脉冲直流磁控溅射沉积和反应毒化现象分析
- 氧化铝薄膜在力学、光学等领域有着广泛的应用前景,研究其沉积条件对氧化铝薄膜结构特性的影响具有重要的意义。本文采用中频脉冲直流磁控溅射方法在Si(100)衬底上制备出氧化铝薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜、可见...
- 牟宗信王振伟牟晓东刘升光
- 关键词：氧化铝形貌微观结构折射率
- 反应溅射的PID神经网络控制仿真被引量：1
- 2009年
- 在反应溅射工艺中,反应气体流量和沉积速率、反应气体气压、靶电压之间存在迟滞关系。为了保证反应溅射稳定以及保持溅射率高和反应气体利用率高,需要对反应溅射系统进行精确控制。PID神经网络(PIDNN)控制器具有PID控制的快速收敛特点和神经网络的非线性逼近能力,适合对非线性反应溅射系统的控制。本文用PID神经网络(PIDNN)控制器对反应溅射系统进行精确控制。在S.Berg给出的反应溅射系统模型基础上,对反应溅射系统的PIDNN控制进行仿真。仿真结果表明,PIDNN控制器能够稳定反应溅射过程,并且收敛速度较快,输出响应迅速,抗干扰能力强。
- 王振伟牟宗信刘升光
- 关键词：反应溅射PID神经网络控制
- 一种用于超高功率脉冲非平衡磁控溅射的电源方法
- 本发明公开发表了一种用于超高功率非平衡磁控溅射的电源方法，主要用于表面工程技术领域。其特征在于：采用球系开关组和脉冲形成线组控制和形成超高功率脉冲放电，实现超高功率的脉冲非平衡磁控溅射的溅射沉积；使用唯一的一个主电源系统...
- 牟宗信王振伟贾莉李国卿赵华玉张鹏云
- 文献传递
- 氧化铝薄膜的中频脉冲直流磁控溅射沉积和反应毒化现象分析
- 氧化铝薄膜在力学、光学等领域有着广泛的应用前景,研究其沉积条件对氧化铝薄膜结构特性的影响具有重要的意义。本文采用中频脉冲直流磁控溅射方法在Si(100)衬底上制备出氧化铝薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜、可见...
- 牟宗信王振伟牟晓东刘升光
- 关键词：氧化铝形貌微观结构折射率
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- 中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌
- 在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.
- 牟宗信王振伟刘升光赵华玉
- 关键词：磁控溅射沉积氮化铝薄膜表面粗糙度
- 文献传递
