牟宗信
- 作品数：98 被引量：171H指数：8
- 供职机构：大连理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金辽宁省教育厅资助项目国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺核科学技术更多>>
- 测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的方法
- 本发明公开了一种测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的方法。该方法基于激光诱导击穿光谱技术结合激光诱导荧光技术测量真空离子镀膜技术及等离子体喷涂镀膜技术的沉积膜厚膜厚与均匀性。该发明是一种微损接近无损的检测方法，...
- 赵栋烨牟宗信王奇丁洪斌
- 文献传递
- 一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法
- 本发明公开了一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法。其特征是在永磁体磁极上安置铁磁性的极靴改变阴极表面的磁场分布，在构成交叉场的磁场中磁场感应强度因在应在50mT-300mT的范围之内，电压的范围是在220-3000V之...
- 牟宗信赵华玉张鹏云贾莉郝胜智
- 文献传递
- 一种观察尘埃斑图的装置
- 本发明属于低温等离子体化学技术领域。本发明由反应生成尘埃等离子体的装置加上尘埃斑图的监控部分组成，其特征是：由激光器和光具组来照明尘埃斑图，由记录设备和计算机来存储和分析尘埃颗粒的状况，形成尘埃斑图的反应室设计成透明的圆...
- 张鹏云王华强牟宗信
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- 离子注入Zn的Si(001)基片热氧化制备纳米ZnO团簇及其生长行为研究
- 2009年
- 采用离子注入技术将Zn离子注入Si(001)基片,并在大气环境下加热氧化制备了ZnO纳米团簇.利用电子探针、薄膜X射线衍射仪、原子力显微镜和透射电子显微镜,对注入和热氧化后的薄膜成分、表面形貌和微观结构进行表征,探讨了热氧化温度以及注入剂量对纳米ZnO团簇的成核过程及生长行为的影响.结果表明,Zn离子注入到Si基片表面后形成了Zn纳米团簇,热氧化过程中Zn离子向表面扩散,在表面SiO2非晶层和Si基片多晶区的界面处形成纳米团簇.热氧化温度是影响ZnO纳米团簇结晶质量的一个重要参数.随着热氧化温度的升高,金属Zn的衍射峰强度逐渐变弱并消失,而ZnO的(101)衍射峰强度逐渐增强.当热氧化温度高于800℃以后,ZnO与SiO2之间开始发生化学反应形成Zn2SiO4.
- 付伟佳刘志文刘明牟宗信张庆瑜关庆丰陈康敏
- 关键词：离子注入形貌分析
- 钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺
- 一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺，属于材料表面技术领域。其特征是：离子镀铬工艺代替现行电镀装饰铬工艺和离子镀超硬铬代替电镀硬铬。工件与真空室之间，施加有脉冲负变偏压，电压为100-2000V，膜层与工...
- 董闯陈宝清牟宗信王清羌建兵王英敏
- 电化学测试系统及Ti-Ni贮氢薄膜的性能
- 2002年
- 设计了三电极电化学测试系统,采用恒电流法进行充放电循环,过程全部由程序控制.本文介绍了贮氢材料的充放电实验装置原理图及相应的程序控制框图,并采用此装置研究了Ti-Ni薄膜的电化学性能.
- 崔岩牟宗信邹学平李国卿吕勇刚任厚民
- 关键词：贮氢材料放电容量循环性能电化学性能镍氢电池
- 钛离子注入对DLC膜结构与性能的影响
- 本文就钛离子注入对DLC膜的改性进行了系统地研究,针对注入能量和剂量对薄膜的结构和性能的影响进行了分析,为实现金属离子注入和气相沉积同步沉积技术奠定基础,研究结果表明: 1.钛离子注入可极大地改善DLC膜的表面性能、机械...
- 苟伟柳翠李国卿张成武牟宗信
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- 新型离子束增强沉积技术被引量：5
- 1998年
- 离子束增强沉积技术是近年在离子注入技术基础上发展的新型材料表面改性技术，本文简要介绍多功能离子束增强沉积设备和应用技术研究，设备具有金属离子注入、气体离子注入、离子束增强沉积、磁控溅射沉积功能，进行材料表面改性和制备各种材料薄膜科学研究。
- 李国卿任春生牟宗信郭宝海钟溥王洋康宁赵成修赵成修孙俊才王亮
- 关键词：表面改性离子束
- 一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法
- 本发明公开发表了一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法。其特征是在永磁体磁极上安置铁磁性的极靴改变阴极表面的磁场分布，在构成交叉场的磁场中磁场感应强度因在应在50mT－300mT的范围之内，电压的范围是在220－3000...
- 牟宗信赵华玉张鹏云贾莉郝胜智
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- 中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能(英文)被引量：2
- 2011年
- 本文采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在不同氮气流量比例的条件下制备出氮化硅薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的微观结构、表面形貌、沉积速率、折射率的影响。结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制备的薄膜为非晶态氮化硅。随着氮气流量比率的增加,Si-N键红外光谱吸收带向低波数漂移,薄膜的沉积速率降低,表面结构更为光滑致密,氮化硅薄膜的折射率降低。薄膜的硬度和杨氏模量分别达到22和220GPa左右。
- 王春牟宗信刘冰冰臧海荣牟晓东
- 关键词：氮化硅薄膜折射率磁控溅射红外光谱
