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赵华玉

作品数：8 被引量：14H指数：1
供职机构：大连理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术航空宇航科学技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇航空宇航科学...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 8篇磁控
  • 6篇磁控溅射
  • 5篇溅射
  • 3篇磁场
  • 2篇氮化铝
  • 2篇电源供电
  • 2篇形貌
  • 2篇驻波
  • 2篇脉冲
  • 2篇脉冲开关
  • 2篇溅射沉积
  • 2篇供电
  • 2篇放电
  • 2篇放电效率
  • 2篇非平衡磁控溅...
  • 2篇场分布
  • 2篇磁场分布
  • 2篇磁控溅射沉积
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝薄膜

机构

  • 8篇大连理工大学

作者

  • 8篇赵华玉
  • 7篇牟宗信
  • 5篇贾莉
  • 4篇张鹏云
  • 3篇郝胜智
  • 3篇王振伟
  • 3篇刘升光
  • 2篇李国卿

传媒

  • 1篇航空制造技术
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇2007年航...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 5篇2007
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
一种磁镜场约束双靶非平衡磁控溅射方法
本发明公开了一种磁镜场约束的对靶非平衡磁控溅射系统，主要用于表面工程技术领域。其特征在于：有两个通电的同轴线圈和两个永磁式磁控靶相对放置，通电线圈能够形成和两个永磁式磁控靶同轴的完全封闭的磁镜场；通过调整两对相对放置的同...
牟宗信贾莉李国卿赵华玉刘升光
文献传递
一种用于超高功率脉冲非平衡磁控溅射的电源方法
本发明公开发表了一种用于超高功率非平衡磁控溅射的电源方法，主要用于表面工程技术领域。其特征在于：采用球系开关组和脉冲形成线组控制和形成超高功率脉冲放电，实现超高功率的脉冲非平衡磁控溅射的溅射沉积；使用唯一的一个主电源系统...
牟宗信王振伟贾莉李国卿赵华玉张鹏云
文献传递
一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法
本发明公开了一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法。其特征是在永磁体磁极上安置铁磁性的极靴改变阴极表面的磁场分布，在构成交叉场的磁场中磁场感应强度因在应在50mT-300mT的范围之内，电压的范围是在220-3000V之...
牟宗信赵华玉张鹏云贾莉郝胜智
文献传递
中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌
2007年
在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.
牟宗信王振伟刘升光赵华玉
关键词：磁控溅射氮化铝
一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法
本发明公开发表了一种利用驻波共振耦合电能的磁控放电方法。其特征是在永磁体磁极上安置铁磁性的极靴改变阴极表面的磁场分布，在构成交叉场的磁场中磁场感应强度因在应在50mT－300mT的范围之内，电压的范围是在220－3000...
牟宗信赵华玉张鹏云贾莉郝胜智
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平面磁控溅射靶磁场的计算被引量：14
2008年
精确分析磁控靶的磁场对优化磁控靶的设计非常重要。本文采用有限元法分析了圆形平面磁控靶的二维磁场分布,理论计算的结果与特斯拉计的实验测量相符,通过对比两种不同磁极尺寸的磁控靶的磁场,发现减少磁极的尺寸可以扩展靶表面径向磁场区域,磁芯上方加圆锥形极靴可以增强磁芯上方径向磁场。
赵华玉牟宗信贾莉张鹏云郝胜智
关键词：磁控溅射磁场有限元法
PIC/MCC模拟直流平面磁控溅射
磁控溅射镀膜是工业镀膜生产中最主要的技术之一，尤其适合于大面积镀膜生产。生产中需特别关注靶材利用率、沉积速率以及溅射过程稳定性等方面的问题，其根本在于整个系统的优化设计，磁控靶设计则是其中的关键环节。精确分析磁控靶的磁场...
赵华玉
关键词：磁控溅射沉积速率
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中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌
在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.
牟宗信王振伟刘升光赵华玉
关键词：磁控溅射沉积氮化铝薄膜表面粗糙度
文献传递
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