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席峰
作品数:
27
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供职机构:
中国科学院微电子研究所
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相关领域:
电子电信
交通运输工程
自动化与计算机技术
机械工程
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合作作者
夏洋
中国科学院微电子研究所
李楠
中国科学院微电子研究所
李勇滔
中国科学院微电子研究所
张庆钊
中国科学院微电子研究所
刘训春
中国科学院微电子研究所
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作者
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李楠
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夏洋
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席峰
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张庆钊
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李勇滔
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胡冬冬
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年份
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2012
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刻蚀系统机柜
1.本外观设计产品的名称:刻蚀系统机柜。;2.本外观设计产品的用途:用于中性粒子刻蚀系统、也可用于等离子刻蚀、去胶、清洗、沉积、注入、键合等带有预腔室结构的半导体工艺系统。;3.本外观设计的设计要点:外部形状。;4.最能...
席峰
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一种用于进气结构的匀气盘
本发明涉及等离子刻蚀、淀积设备技术领域,具体涉及一种应用于等离子刻蚀、淀积设备的进气结构中的匀气盘。所述用于进气结构的匀气盘上分布若干小孔,所述小孔从所述匀气盘的中心到边缘按照由密到疏、由疏到密或由密到疏再到密的方式分布...
李楠
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张庆钊
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文献传递
产生中性粒子束的装置及方法
本发明公开了一种产生中性粒子束的装置,包括反应腔体、放置芯片的载片台、等离子源、上网板,所述上网板、等离子源和所述载片台设置在所述反应腔体内部,所述上网板设置在所述等离子源上方,所述等离子源和所述载片台之间依次设置有中网...
席峰
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张庆钊
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一种进气结构
本发明涉及等离子刻蚀、淀积设备技术领域,具体涉及一种应用于等离子刻蚀、淀积设备的进气结构。所述进气结构,包括进气管、匀气筒和匀气盘,所述进气管固定设置在真空室腔室上盖中部,所述进气管末端延伸至所述反应腔内的匀气筒内,所述...
席峰
胡冬冬
刘训春
李勇滔
李楠
张庆钊
夏洋
文献传递
一种非金属真空腔室结构
本发明公开了一种非金属真空腔室结构,属于等离子体技术领域。所述非金属真空腔室结构包括进气口、上盖板、腔室筒体、射频线圈、下盖板和排气口;进气口设置于上盖板的中心处,排气口设置于下盖板的中心处,上盖板、下盖板与腔室筒体密封...
席峰
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一种平板电极固定结构
本发明公开了一种平板电极固定结构,属于等离子体刻蚀技术领域。所述平板电极固定结构包括绝缘支撑,绝缘支撑上设置有多个进气孔,上电极和下电极围绕进气孔均匀分布。绝缘支撑的厚度为5~1000mm。绝缘支撑由绝缘材料制成,绝缘材...
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一种新型匀气结构
本发明涉及等离子刻蚀、淀积及中性粒子刻蚀设备技术领域,具体涉及一种应用于等离子体或中性粒子刻蚀系统的匀气结构。所述匀气结构设置在真空腔室的进气管的下方,所述匀气结构包括匀气筒,所述匀气筒采用中心同轴且相互旋转的内匀气筒和...
李楠
席峰
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张庆钊
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刻蚀系统工艺腔室
1.本外观设计产品的名称:刻蚀系统工艺腔室。;2.本外观设计产品的用途:用于中性粒子刻蚀系统、也可用于等离子刻蚀、去胶、清洗、沉积、注入、键合等带有预腔室结构的半导体工艺系统。;3.本外观设计的设计要点:外部形状。;4....
席峰
胡冬冬
屈芙蓉
刘训春
李勇滔
李楠
张庆钊
夏洋
文献传递
一种进气结构
本发明涉及等离子刻蚀、淀积设备技术领域,具体涉及一种应用于等离子刻蚀、淀积设备的进气结构。所述进气结构,包括进气管、匀气筒和匀气盘,所述进气管固定设置在真空室腔室上盖中部,所述进气管末端延伸至所述反应腔内的匀气筒内,所述...
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产生中性粒子束装置及方法
本发明公开了一种产生中性粒子束装置包括射频电源、平面螺旋型射频线圈、反应腔体、放置芯片的载片台、法拉第屏蔽栅、等离子源、上网板及中网板。还公开一种产生中性粒子束方法。根据本发明提供的产生中性粒子束装置及方法,解决了等离子...
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