周明飞
- 作品数：8 被引量：47H指数：4
- 供职机构：安徽大学物理与材料科学学院更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金安徽省人才开发基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- TiO2薄膜的相变与光学性能被引量：3
- 2008年
- 采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上沉积TiO_2薄膜。通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱、紫外可见光谱和荧光发射光谱对薄膜的结构、相组成和表面形貌进行了表征。研究了退火温度对薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响。结果表明:沉积的TiO_2薄膜为无定形结构,经400℃以上退火后的薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火后的薄膜开始出现金红石相,1 000℃以上退火的薄膜完全转变为金红石相。随着退火温度的升高,晶粒尺寸逐渐增大,仅在950～1000℃时出现减小,1000℃退火的薄膜组成为TiO_x。随着退火温度的升高,薄膜的透射率下降,折射率和消光系数有所增加。
- 孟凡明周明飞宋学萍
- 关键词：二氧化钛薄膜射频磁控溅射锐钛矿金红石
- TiO2薄膜光催化及其亲水性能研究
- TiO2是n型金属氧化物半导体,是一种重要的无机功能材料,可用于制作电介质材料、光催化薄膜、减反射涂层、气敏传感器等。TiO2薄膜材料由于具有较好的光催化和亲水特性,在环境污染、自清洁材料等较多领域里有着广泛的应用前景。...
- 周明飞
- 关键词：射频磁控溅射法TIO2薄膜光催化亲水性能
- 文献传递
- 退火温度对TiO_2薄膜结构、组分和光学性能的影响被引量：9
- 2008年
- 利用射频磁控溅射,在硅和石英基底上制备了厚度为150 nm的TiO2薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见分光光度计(UV-vis)和光致发光谱(PL)等多种测试分析技术,研究退火温度对TiO2薄膜结构、组分及光学性能的影响。研究结果表明,未退火薄膜为无定型结构;随着退火温度的升高薄膜的金红石相含量逐渐增加,并沿(110)晶面择优取向。能隙也由退火前的3.03 eV逐渐增加到900℃退火后的3.18eV。对于TiO2薄膜催化活性最优的退火温度应为800℃。
- 周明飞孟凡明孙兆奇宋学萍
- 关键词：射频磁控溅射TIO2薄膜退火光学性能
- 纳米TiO2薄膜的制备与表面形貌研究被引量：22
- 2008年
- 研究退火温度对薄膜相结构、表面化学组成及形貌的影响。采用射频磁控溅射法在单晶硅片上淀积TiO2薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和X光电子能谱(XPS)对其进行表征。结果表明,室温制备400℃以下退火的TiO2薄膜为无定形结构,400℃以上退火的TiO2薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火的TiO2薄膜开始出现金红石相,退火温度在1000℃以上时样品已经完全转变为金红石相;随着退火温度的升高,晶粒尺寸和表面粗糙度逐渐增大,但是当退火温度为1000℃时反而有所减小,晶粒尺寸和表面粗糙度在退火温度为1000℃时发生的这一突变现象,是由该退火温度下的相变导致。
- 孟凡明周明飞蔡琪孙兆奇
- 关键词：TIO2薄膜磁控溅射锐钛矿金红石
- 退火温度对TiO_2薄膜结构与光学性能的影响被引量：4
- 2007年
- 研究退火温度对薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响。采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上负载TiO2薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、X光电子能谱(XPS)和紫外可见光谱(UV-vis)对其进行表征。结果表明,常温制备400℃以下退火的TiO2薄膜为无定形结构,400℃以上退火的TiO2薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火的TiO2薄膜开始出现金红石相,退火温度在1000℃以上时样品已经完全转变为金红石相;高温退火薄膜的组成为TiOx;随着退火温度的升高,薄膜透射率下降,折射率和消光系数有所增加。
- 孟凡明周明飞宋学萍孙兆奇
- 关键词：TIO2薄膜射频磁控溅射退火锐钛矿金红石
- TiO2薄膜原子力显微镜图像多重分形谱的二次函数拟合被引量：4
- 2008年
- 用原子力显微镜观察经不同退火温度处理TiO_2薄膜的表面形貌,观察结果表明,随着退火温度的升高,颗粒不断长大,数目逐渐减少,表面粗糙度RMS从4.1nm增大到18.4nm。用最小二乘法对原子力显微镜图像多重分形谱进行二次函数拟合,结果显示,随着退火温度的升高,α_0从1.999增大到2.008,B由正值转变为负值,分形谱宽W由0.064增大到0.246,说明TiO_2薄膜表面形貌愈来愈复杂。
- 吕建国孟凡明周明飞宋学萍孙兆奇
- 关键词：TIO2薄膜原子力显微镜多重分形谱
- 基底温度对磁控溅射制备ZnO薄膜性能的影响被引量：6
- 2007年
- 利用射频磁控溅射,在Si基底上制备了ZnO薄膜.采用电子薄膜应力分布测试仪、X射线衍射和傅立叶变换红外光谱仪等检测手段研究了基底温度对其应力、微结构及光学性能的影响.ZnO薄膜在(002)晶面具有良好的c轴取向.在基底温度为200～300 ℃范围内,ZnO薄膜具有良好的结晶性能和较均匀的应力分布.红外光谱在430cm-1附近出现了Zn-O键的振动吸收峰.
- 周明飞宋学萍孙兆奇
- 关键词：ZNO薄膜基底温度微结构应力红外光谱
- TiO2薄膜的相变与光学性能研究
- 研究退火温度对 TiO薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响。使用 JGP560 Ⅰ型超高真空多功能磁控溅射设备,采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上负载 TiO薄膜,使用 GSL1300X 型真空管式高温...
- 孟凡明周明飞宋学萍孙兆奇
- 关键词：TIO2薄膜射频磁控溅射退火锐钛矿金红石
- 文献传递
