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孙兆奇

作品数:160 被引量:465H指数:11
供职机构:安徽大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金安徽省自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 124篇期刊文章
  • 21篇会议论文
  • 10篇专利
  • 4篇科技成果
  • 1篇学位论文

领域

  • 105篇理学
  • 31篇一般工业技术
  • 14篇电子电信
  • 13篇化学工程
  • 9篇机械工程
  • 6篇电气工程
  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇医药卫生
  • 1篇生物学
  • 1篇冶金工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 43篇微结构
  • 34篇溅射
  • 33篇光学
  • 27篇磁控
  • 25篇磁控溅射
  • 20篇纳米
  • 17篇射频磁控
  • 17篇AG
  • 16篇射频磁控溅射
  • 15篇退火
  • 15篇光谱
  • 14篇陶瓷
  • 13篇应力
  • 12篇分形
  • 11篇膜厚
  • 11篇光学性
  • 10篇退火温度
  • 10篇多重分形谱
  • 8篇光电
  • 7篇氧化钛

机构

  • 159篇安徽大学
  • 14篇合肥师范学院
  • 10篇安徽农业大学
  • 6篇教育部
  • 4篇滁州学院
  • 4篇安徽教育学院
  • 3篇安徽建筑工业...
  • 3篇中国科学院
  • 2篇大连理工大学
  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇贵州大学
  • 1篇合肥学院
  • 1篇上海交通大学
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇中国人民解放...
  • 1篇临沂大学
  • 1篇长鑫存储技术...

作者

  • 160篇孙兆奇
  • 75篇宋学萍
  • 31篇吕建国
  • 23篇蔡琪
  • 21篇李爱侠
  • 21篇孟凡明
  • 20篇曹春斌
  • 19篇孙大明
  • 13篇张苗
  • 13篇江锡顺
  • 12篇王佩红
  • 10篇徐志元
  • 9篇石市委
  • 9篇刘艳美
  • 8篇赵宗彦
  • 8篇吴明在
  • 7篇何玉平
  • 7篇吴桂芳
  • 7篇王磊
  • 7篇何刚

传媒

  • 18篇安徽大学学报...
  • 16篇功能材料
  • 11篇真空科学与技...
  • 8篇合肥工业大学...
  • 8篇真空科学与技...
  • 6篇人工晶体学报
  • 5篇电子显微学报
  • 4篇光学学报
  • 4篇真空与低温
  • 4篇合肥师范学院...
  • 3篇硅酸盐学报
  • 3篇吉林大学学报...
  • 2篇硅酸盐通报
  • 2篇量子电子学报
  • 2篇物理实验
  • 2篇物理学报
  • 2篇分析测试学报
  • 2篇真空电子技术
  • 2篇材料科学与工...
  • 1篇激光生物学报

年份

  • 2篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 3篇2017
  • 4篇2016
  • 5篇2015
  • 3篇2014
  • 8篇2013
  • 5篇2012
  • 4篇2011
  • 13篇2010
  • 8篇2009
  • 14篇2008
  • 12篇2007
  • 17篇2006
  • 12篇2005
  • 7篇2004
  • 11篇2003
160 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Au-MgF_2复合纳米颗粒薄膜的制备和微结构被引量:5
2004年
用射频磁控共溅射法制备了Au体积分数分别为 6 %、1 5 %、2 5 %、4 0 %、5 0 %和 6 0 %的Au MgF2 复合纳米颗粒薄膜。用X射线衍射、透射电镜、X射线光电子能谱对薄膜的微结构和组分进行了测试分析 ,分析结果表明 :制备的Au MgF2 复合纳米颗粒薄膜由fcc Au晶态纳米微粒镶嵌于主要为非晶态的MgF2 陶瓷基体中构成 ,当Au体积百分含量由 1 5 %增至 6 0 %时 ,其平均晶粒尺寸由 5 1nm增大到 2 1 2nm ,晶格常数由 0 39984nm增大到 0 4 0 74 3nm ;随Au体积百分含量由 6 %增至5 0 % ,其颗粒平均粒径则由 9 8nm增至 2 1 4nm。名义组分为vol.6 0 %Au MgF2 样品中Au的体积百分含量约为 6 2 6 % ,与设计值基本一致。
蔡琪王磊王佩红宋学萍孙兆奇
关键词:微结构射频磁控溅射纳米材料
溅射硅基铜膜厚度与应力关系研究被引量:4
2003年
采用光学相移法 ,对不同厚度硅基铜膜在特定退火温度 (2 0 0℃ )下的应力变化进行了研究。研究表明 :膜厚在10 3~ 2 2 8nm之间的平均应力和应力差的变化比较小 ,应力分布比较均匀。
吴桂芳宋学平王荣刘琦孙兆奇
关键词:退火温度膜厚应力
创新性近代物理实验教学——AZO薄膜的制备及其表征
2009年
介绍了创新性近代物理实验sol-gel法制备AZO薄膜的实验原理和不同Al掺杂量ZnO薄膜的制备过程,用X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计测试了AZO薄膜的微结构和光学性质。测试结果表明:随着Al掺杂量的增加,AZO薄膜的结晶度提高,吸收边发生蓝移,光学带宽Eg从3.279减小3.216eV。实验教学结果显示:将科研项目开设为创新性学生实验,教学效果良好,激发了学生对实验的学习兴趣,培养了学生的创新意识和综合能力。
吕建国孙兆奇朱剑博宋学萍
关键词:创新性实验教学近代物理实验AZO薄膜
氩气分压与膜厚对溅射Al膜微结构及应力的影响
在不同氩气分压下,用直流溅射法在室温Si基片上制备了不同厚度的Al膜。用光学干涉相移法和X射线衍射技术,对薄膜应力和微结构进行了测试分析。微结构分析表明:制备的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;氩气分压分别为1P...
宋学萍孙兆奇
关键词:微结构应力
文献传递
Na掺杂量对ZnO薄膜AFM图像多重分形谱的影响被引量:1
2010年
用溶胶-凝胶法在Si(111)基片上制备Na掺杂ZnO薄膜,利用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的表面形貌,采用多重分形理论定量表征薄膜的AFM图像。结果显示:随着Na含量的增加,薄膜平均颗粒尺寸逐渐增大,表面RMS粗糙度从7.4 nm增大到44.4 nm,分形谱宽Δα从0.059增大到0.200,说明薄膜表面高度分布不均匀程度逐渐增大;所有样品的Δf值均大于零,表明薄膜表面沉积于最高峰的原子数多于最低谷的原子数。
吕建国陈学梅朱剑博黄凯宋学萍孙兆奇
关键词:AFM粗糙度
高频等离子体阳极氧化铝膜的特性被引量:1
2000年
将真空蒸发沉积的铝膜 ,在一台高频等离子体辉光放电的装置中进行阳极氧化。铝膜表面氧化层的特性用XRD、XPS、AES和四探针法测定。结果表明 ,铝膜表面氧化层结构是γ -Al2O3 ,晶格常数ao =0.79124nm。室温电阻为6.56~0 .11Ω/□或1256.4~4.81Ω/□ ,低温电阻(77~273K)为0.18~0 .38Ω/□。
徐志元李爱侠孙兆奇孙大明
关键词:阳极氧化
退火温度对溅射Al膜微结构及应力的影响被引量:9
2003年
用直流溅射法在Si基片上制备了 2 5 0nm厚的Al膜 ,并在不同退火温度下进行退火处理 ,用X射线衍射和光学干涉相位移法对薄膜的微结构及应力随退火温度的变化进行了研究。结构分析表明 :退火后的Al膜均呈多晶状态 ,晶体结构仍为面心立方 ;随着退火温度由 2 0℃升高到 4 0 0℃ ,薄膜的平均晶粒尺寸由 2 2 8nm增加到 2 5 1nm ;薄膜晶格常数在不同退火温度下均比标准值 4 0 4 96 A稍小。应力分析表明 :随退火温度的升高 ,Al膜应力减小 ,30 0℃时平均应力减小为 2 730× 10 8Pa且分布均匀 ;在 4 0 0℃时选区范围内应力差仅为 3 82 8× 10 8Pa。
宋学萍周桃飞赵宗彦孙兆奇
关键词:退火处理微结构应力晶体
Au-MgF2复合纳米颗粒薄膜有效介质理论的颗粒尺寸效应修正
近代科学技术的发展,对材料提出了越来越高的性能要求,促进了复合材料的快速发展。作为一类新型的功能薄膜材料,由尺度为纳米量级的金属颗粒弥散于陶瓷基体中所构成的复合金属陶瓷薄膜体系,由于具有许多独特的光电性能,如显著的三阶非...
江锡顺曹春斌蔡琪宋学萍孙兆奇
文献传递
Al掺杂ZnO薄膜原子力显微图像的多重分形研究被引量:3
2008年
用原子力显微镜观察溶胶-凝胶法制备Al掺杂ZnO薄膜的表面形貌,运用多重分形理论研究Al掺杂ZnO薄膜的原子力显微图像,多重分形谱可以很好地定量表征薄膜的表面形貌。结果显示:Al掺杂量为0.5 at.%的ZnO薄膜经550℃退火处理后,rms粗糙度为1.817,Al掺杂量为1.0 at.%的ZnO薄膜经600℃退火处理后,rms粗糙度增大到4.625,相应的分形谱宽Δα从0.019增大到0.287,分形参数Δf由-0.075变为0.124。
吕建国宋学萍孙兆奇
关键词:表面形貌多重分形谱
用反射椭偏术测膜厚实验中存在的问题及解决办法(英文)
1997年
薄膜科学与技术是当前高科技中的一个重要领域,用反射式椭偏仪测量薄膜厚度是一个重要的物理实验.然而,目前的实验内容只能确定膜厚在第一周期以内的值而不能确定膜厚的周期数,因而不能测得薄膜的实际厚度.
孙兆奇曹卓良吴桂芳
关键词:厚度
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