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郭传飞

作品数:20 被引量:0H指数:0
供职机构:国家纳米科学中心更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程重要方向项目北京市自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术机械工程更多>>

文献类型

  • 17篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 6篇激光
  • 6篇激光直写
  • 6篇合金
  • 5篇掩模
  • 5篇光电
  • 5篇光电薄膜
  • 5篇光刻
  • 5篇产品尺寸
  • 5篇尺寸
  • 4篇气相沉积
  • 4篇热阻
  • 4篇物理气相沉积
  • 4篇膜厚
  • 4篇金属
  • 4篇金属薄膜
  • 4篇二元合金
  • 3篇颜料
  • 3篇珠光
  • 3篇珠光颜料
  • 3篇光学

机构

  • 20篇国家纳米科学...
  • 1篇中国科学院上...
  • 1篇北京自动化控...
  • 1篇香港中文大学...
  • 1篇南方科技大学

作者

  • 20篇刘前
  • 20篇郭传飞
  • 14篇曹四海
  • 4篇李晓军
  • 3篇张建明
  • 3篇田野
  • 2篇苗俊杰
  • 2篇张祝伟
  • 1篇范永涛
  • 1篇徐文东
  • 1篇张浩然

传媒

  • 1篇物理
  • 1篇光子学报
  • 1篇中国科技成果

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2014
  • 3篇2012
  • 8篇2011
  • 2篇2010
  • 3篇2009
  • 2篇2008
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜
本发明涉及一种带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜,包括基底,和依次沉积在基底上的第一保护层、氧化物掩模层、第二保护层、第一金属薄膜和第二金属薄膜;所述的第一金属薄膜和第二金属薄膜,是两种金属在相对较低温度≤500℃下,能形成...
刘前曹四海郭传飞李晓军
文献传递
超分辨近场结构的研究进展及其应用
2009年
超分辨近场结构(super-resolution near-field structure,super-RENS)由于突破了传统远场光学衍射极限的限制,在纳米光储存、微纳米加工、基于局域表面等离子体增强的生物传感器方面展现出良好的应用前景,因此吸引了众多研究者的目光.文章简要介绍了超分辨近场结构的发展历程、相应的工作机理、最新研究动态及其在超高密度光存储、近场光刻中的应用状况,并对未来的工作重点做出展望.
刘前曹四海郭传飞
关键词:光学近场光存储
新型激光直写的方法与技术
2021年
激光直写是一类重要的微纳米加工技术,广泛用于高精度掩模板、MEMS、微纳米结构的制造等领域。依据阿贝成像原理,提高激光系统加工分辨率有缩短波长和增大物镜数值孔径两条技术道路,现均已发展到极致,但激光加工分辨率仍然徘徊在微米量级,制约了激光直写在纳米领域的应用。为了进一步提高加工分辨率,突破阿贝成像的衍射极限已成为必然趋势。此外,目前的激光直写设备主要使用的受体材料是有机光刻胶,严重限制了它的应用场景。针对上述两个难题,寻找新的技术原理、研究新原理下的激光直写方法、研发新一代激光直写装备等科学技术问题,具有重要的理论和实际意义。
刘前郭传飞王永胜张浩然张浩然
关键词:激光直写激光系统数值孔径微纳米结构掩模板光刻胶
一种微米/纳米尺度BiOCl薄膜材料及其制备方法
本发明涉及一种微米/纳米尺度BiOCl薄膜材料及其制备方法,该材料包括一基底,在基底上沉积一层金属铋薄膜,再以金属铋薄膜为原料形成一层由二维BiOCl纳米片构成的BiOCl薄膜,该BiOCl薄膜的厚度为30nm-2μm。...
曹四海郭传飞刘前
一种基于激光直写金属薄膜线性可控制备纳米点阵的方法
本发明涉及基于激光直写金属薄膜可控制备纳米点阵的方法,其包括采用在衬底上沉积金属膜层,膜厚控制在5nm~200nm;使用激光直写系统,经过系统光路聚焦,在沉积得到的金属膜层上进行刻写;充分利用激光光束的高斯分布特性和膜层...
王永胜刘前曹四海郭传飞苗俊杰田野
BiOCl,BiOBr及Bi<Sub>2</Sub>S<Sub>3</Sub>的微/纳米分级结构
本发明提供BiOX(X=Cl或Br)及Bi<Sub>2</Sub>S<Sub>3</Sub>的微/纳米分级结构。其中Bi<Sub>2</Sub>S<Sub>3</Sub>薄膜的制备方法包括以下步骤:1)在基底上采用磁控溅...
田野郭传飞刘前
文献传递
一种超细晶金属或合金薄膜及其制备方法
本发明提供一种超细晶金属或合金薄膜及其制备方法。其中制备超细晶金属薄膜的方法包括以下步骤:步骤1)选取基底,对其进行清洗和干燥处理;步骤2)采用物理气相沉积工艺,生长一层金属In,Sn,Zn或Bi薄膜;步骤3)表面氧化步...
张建明郭传飞刘前
一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法
本发明提供了一种制备具有微纳褶皱图案薄膜的方法,包括以下步骤:选取基底;在所述基底上形成聚合物薄膜,并进行退火处理,得到该聚合物薄膜厚度为10nm-2μm;在步骤2)所得的聚合物薄膜上形成金属薄膜,其厚度为2~50nm;...
张祝伟郭传飞刘前
一种用于光刻技术的无机热阻膜
本发明涉及一种用于光刻技术的无机热阻膜,包括基底、在基底上依次生长的无机金属薄膜Al和无机金属薄膜B;还包括在无机金属薄膜B的另一面上再生长一层相同的无机金属薄膜A2;所述的无机金属薄膜Al和无机金属薄膜A2为相同的金属...
刘前曹四海郭传飞李晓军
文献传递
一种基于激光直写金属薄膜线性可控制备纳米点阵的方法
本发明涉及基于激光直写金属薄膜可控制备纳米点阵的方法,其包括采用在衬底上沉积金属膜层,膜厚控制在5nm~200nm;使用激光直写系统,经过系统光路聚焦,在沉积得到的金属膜层上进行刻写;充分利用激光光束的高斯分布特性和膜层...
王永胜刘前曹四海郭传飞苗俊杰田野
文献传递
共2页<12>
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